UV Litho-ACA 无掩膜光刻机

1. 产品概述

ACA无掩膜光刻机系列是科研版的无掩膜版紫外光刻机，其基于空间光调制技术，实现了数字掩膜光刻，灵活性使其成为科学研究。设备搭载长寿命、高功率的紫外光源，设备稳定，上手简单。其的原位光绘和交互式套刻指引功能，让光刻和套刻更加容易和精准。ACA系列设备为科研工作提供了强大的支持，助力科学研究域的发展和创新。

2. 特色参数

特征尺寸0.8μm

6英寸光刻面积

高精度步进光刻

无掩膜光刻机

3. 应用案例

微流道芯片

二维材料电

光学掩膜版

MEMS器件

灰度光刻

4. 公司简介：

托托科技（苏州）有限公司是一家注于显微光学加工和显微光学检测域的公司，在基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术域中进行了数年的深入研究和技术积累，其研制和生产的无掩膜紫外光刻机一经问世，就受到了诸多客户的青睐，在科研和工业域都有广泛的应用。例如，在微纳加工域，可以用于制作MEMS器件、微流控芯片、微型传感器等；在光电子域，可以用于制作光栅、衍射光学元件等。
  托托科技致力于设备底层技术的研究和积累，不断寻求技术的突破，努力为客户带来更好的设备和更好的使用体验，帮助客户创造更高的价值。