μMLA 无掩模光刻机

1. 产品概述：

台式 μMLA 系统是优良的无模板技术，建立在的 μPG 平台之上，该平台是全球高的台式无模板系统。它是一款入门研发（R&D）工具，几乎适用于任何需要微结构的应用。典型的例子有微流控（细胞分选装置、芯片实验室）、小规模掩模写入、微光学和微透镜阵列、传感器、MEMS、接触式二维材料和扇出电等。

μMLA是一种灵活且可定制的工具，并提供两种曝光模式。标准μMLA使用光栅扫描曝光模式进行曝光，该模式速度快，可提供出色的图像质量和保真度，而写入时间与图案密度的结构大小无关。可选的矢量扫描模式旨在以更快、更准确的方式对连续平滑的曲线（如波导）进行图案化。三种光学设置提供了可变分辨率和吞吐量的选择。每种配置都允许在不同的分辨率和速度配置之间轻松切换，以优化给定应用的曝光。拉伸模式可以对现有结构进行直接的临时修改，并可以与纳米线或 2D 材料进行电接触。灰度曝光模式允许创建复杂的 2.5 结构，例如微光学设备。μMLA占地面积小，可放在普通桌子上。