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纳米压印胶 正性/负性光刻胶 显影液去胶液

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冠乾科技Grant Technology 有限公司创立于中国上海。 公司为用户提供先进可靠的设备及、

仪器技术,为客户把握工艺过程,得到优质的结果而服务。
Grant是“授予”的意思,希望公司能够成为一个平台,以用户能够得到上更新更快的技术资讯,技术方案为企业目标。

冠乾科技追求品质产品、专业的应用和完善的售后服务,我们是您可以信赖的合作伙伴。

工艺设备:真空镀膜机;离子束刻蚀机,ICP刻蚀机,等

产品线丰富,元素分析:原子吸收,气相色谱,液相色谱,气质联用,紫外分光光度计等; 热分析:材料表面分析:原子力显微镜,光学轮廓仪,摩擦磨损等;  通用分析:扫描电镜,

实验室仪器
原子吸收光谱仪
近红外光谱仪
紫外分光光度计
电化学工作站
红外光谱仪
镀层测厚仪
数字显微镜
影像测量仪
Wafer 粗糙度检测
3D 轮廓仪
超景深显微镜
TTV 测试
扫描探针显微镜
台式扫描电镜

其他仪器:
四探针测试
离子减薄机

 

原子力显微镜,摩擦磨损试验机,超景深显微镜,镀膜机

供货周期 一个月 应用领域 化工,生物产业,电子/电池,综合

Negative Photoresists

Positive Photoresists

Resist Removers

Resist Developers

Edge Bead Removers

Planarizing, Protective and Adhesive Coatings

Spin-On Glass Coatings

Spin-On Dopants

曝光

应用

特性

对生产量的影响

i线曝光用粘度增强负胶系列

在设计制造中替代基于聚异戊二烯双叠氮(Polyioprene-Bisazide)的负胶。

在湿刻和电镀应用时强大的粘附力;很容易用去胶液去除。     单次旋涂厚度范围如下:﹤0.1200 μm可在ig以及h-line波长曝光

避免了基于有机溶剂的显影和冲洗过优于传统正胶的优势:控制表面形貌的优异线宽 任意甩胶厚度都可得到笔直的侧壁
单次旋涂即可获得200 μm胶厚
厚胶同样可得到高清的分辨率

150 ℃软烘烤的应用可缩短烘烤时间
优异的感光度进而增加曝光通量
更快的显影,100 μm的光刻胶显影仅需6 ~ 8分钟光刻胶曝光时不会出现气泡
可将一种显影液同时应用于负胶和正胶
不必使用增粘剂如HMDS

gh线曝光用粘度增强负胶系列




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