PFS系列 活性化退火设备

1. 产品概述

PFS系列是SiC工艺等高温处理工艺中，配合使用的退火设备。可大对应φ 150mm。活性化退火设备‌是一种专门用于半导体行业的技术设备，它属于退火炉的一种，用于加热半导体晶片以影响其电性能。退火炉在半导体器件制造中扮演着重要的角色，通过加热晶片来激活掺杂剂、转换薄膜形态、修复注入损伤等，从而改善半导体的电气性能。这种设备通常具有节能型周期式作业炉结构，采用超节能设计和纤维结构，以实现高效节能。此外，活性化退火设备还能够集成到其他炉子处理步骤中，如氧化处理，或者独立进行处理，以满足不同的工艺需求。

2. 设备用途/原理

SiC功率器件用。研究开发。量产用。

3. 设备特点

大可对应φ150mm基板。大可加热2000℃。高真空对应。单批次25片一次性处理（也有5片处理机）