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wafer size | 2/4/6/8英寸 | chemical | 碱性洗剂 超纯水 |
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处理单元 | 50片/次 | 设备材质 | SUS304 |
处理产品 | 氧化镓/碳化硅/MASK/陶瓷/LT/LN/InP等 | 使用工艺段 | 抛光后/CMP后 |
全自动超声清洗机
适用材料:Si、SiC、砷化镓、氧化镓、氮化镓、玻璃、石英、基板、陶瓷、InP、蓝宝石、铌酸锂、钽酸锂等
适用晶片尺寸:2~12寸(方片/圆片)
清洗方式:药剂超声+水超声
适用工艺段:研磨后、粗抛后、精抛后、CMP后、减薄后等工艺
全自动超声波清洗机设备配置:
机架:SUS304
外壳:SUS304镜面板
药液管路:根据药液适配
槽材质:SUS316L 2mm
水槽材质:PPN 10T
纯水管路:Cl-PVC
排气:SUS304
工艺槽功能:加热+循环过滤+抛动+超声
水槽功能:喷淋+溢流+鼓泡+快排
机械臂:SUS316
控制方式:PLC+触控屏(或PC+触控)
质保:12个月
槽体功能详细介绍:
工艺碱超声槽
² 槽体尺寸:设计确认
² 溶液:碱性洗剂
² 工艺温度:RT -80±2℃
² 槽材质:SUS316L折弯焊接加工而成,槽底倾斜设计,加热溢流循环超声结构;
² 加热方式:通过式加热;加热器不放置于槽底,采用专用器件悬挂于外壁两侧,间接加热药液。槽底无加热器,若采用槽底加热器将会对超声效果有影响;
² 循环:溢流出的溶液通过泵从底部注入工作槽(循环管路中设置有过滤装置,过滤精度0.5um),使得药液温度更加均衡,保持工艺的稳定性。循环泵采用进不锈钢泵;
² 上液方式:自动供液;设备后部设有自动供液装置一个泵对应两个桶;共两种洗剂;其中1#和2#洗剂相同;
² 槽体内设置氮气液位传感器,分别为低、中、高液位;低于低液位报警防止无液干烧;中与高液位之间为工作液位,低于中液位自动补液,高于高液位黄灯亮警示操作人员;高于高液位声光报警,漏液警报;
² 超声方式:进口超声系统,功率可调;
² 计时功能:按下“开始”按钮,倒叙计时,可在触摸屏上直观显示工艺时间。设定精度1s。
² 排液方式:自动重力排放,排液口增加过滤装置
² 槽盖:配置有不锈钢自动槽盖
QDR槽
² 清洗液:DIW
² 槽体尺寸:设计确认
² 槽体材质:德国进口10mmNPP板焊接而成
² 药液温度:RT
² 供水方式:自动,流量压力可调
² 排放方式:快排,直排至厂务。
² 注水时间<30S,排放时间≤5S
² 槽体形状 : 方形V 型四边溢流,喷嘴约往槽体45°倾斜,充分清洗硅片;槽体下方配有缓冲槽,废水先排至缓冲槽后在进行排放
² 工艺流程:放入工件→开始喷淋,同时快排阀打开→底部注水,同时快排阀关闭,氮气鼓泡打开→溢流漂洗+氮气鼓泡→快排阀打开,快速排放,一次冲洗快排工艺结束
² 工艺时间:1~9999秒可设定。循环冲洗次数、时间等可在触摸屏上进行设定并声光报警提示
² 上水流量、压力可调
² 排放口设有滤网防止物件堵塞管路;排放管路设置废水回收管路;
² 槽体底部设有匀流板