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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>湿法工艺设备>湿法清洗设备>RHXX-AWB 全自动超声清洗机

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RHXX-AWB 全自动超声清洗机

具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称 苏州瑞红昕芯科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型号 RHXX-AWB
  • 产地 中国。江苏。苏州
  • 厂商性质 生产厂家
  • 更新时间 2024/5/24 11:56:30
  • 访问次数 103

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


苏州瑞红昕芯科技有限公司是国内湿制程工艺设备制造商之一;公司经过多年行业沉淀,积累了一批经验丰富的研发、设计、生产、销售及售后团队;目前不仅可以根据客户工艺适配设备;还能与客户共同工艺验证,开发符合客户工艺需求设备;更能通过客户需求工艺设备开发及打样验证;技术方面更与日本SANTECH取得技术合作;产品涉及槽式、片式、洗刷式等一些列产品;

公司一直秉持开放 合作 共赢的经营理念;服务好每一位新老客户

企业文化:

人才:引进与培养人才是公司人力资源模块的重要部分,截止目前为止公司已经完成人员高素质、高技术的转变。

企业精神:高效 务实 创新 超越

经营理念: 以人为本 诚信立业 规范操        作 求远务实

市场战略:东西南北齐飞、国际国内共同发展

企业愿景:成为国内外”头部”湿制程技术设备服务商

Team:

简单:人与人之间交流的简单,追求设计产品的简单。

正直:信守承诺,做正直的事,做正直的人。

创新:创新是进步的灵魂,勇与尝试,大胆想象。

超越:从优秀更上一层楼,不断超越,锐意进取。

成长:广阔的成长空间,让成长进步贯穿RHXX每一天。

我们是一支专业的团队。我们的成员拥有多年的专业技术背景,来自国内外公司的一线骨干。我们是一支年轻的团队。充满了朝气和创新精神。

我们是一支专注的团队。我们坚信,安全的品牌源自客户的信任。只有专注,才能做好。

我们是一支有梦想的团队。我们来自不同的地方,因为一个共同的梦想:



半导体湿法腐蚀清洗设备,wet bench,晶圆清洗机,RCA清洗机,重腐蚀机,刻蚀机,wet ETCHing,供液装置,桶清洗设备,灌装,铌酸锂/钽酸锂清洗机,氧化钾清洗机,lift-off,去胶,去蜡,刷洗机,基板清洗机,掩膜版清洗机,mask

wafer size 2/4/6/8英寸 chemical 碱性洗剂 超纯水
处理单元 50片/次 设备材质 SUS304
处理产品 氧化镓/碳化硅/MASK/陶瓷/LT/LN/InP等 使用工艺段 抛光后/CMP后

全自动超声清洗机

适用材料:Si、SiC、砷化镓、氧化镓、氮化镓、玻璃、石英、基板、陶瓷、InP、蓝宝石、铌酸锂、钽酸锂等

适用晶片尺寸:2~12寸(方片/圆片)

清洗方式:药剂超声+水超声

适用工艺段:研磨后、粗抛后、精抛后、CMP后、减薄后等工艺

全自动超声波清洗机设备配置:

机架:SUS304

外壳:SUS304镜面板

药液管路:根据药液适配

槽材质:SUS316L  2mm

水槽材质:PPN 10T

纯水管路:Cl-PVC

排气:SUS304

工艺槽功能:加热+循环过滤+抛动+超声

水槽功能:喷淋+溢流+鼓泡+快排

机械臂:SUS316

控制方式:PLC+触控屏(或PC+触控)

质保:12个月

槽体功能详细介绍:


工艺碱超声槽

² 槽体尺寸:设计确认

² 溶液:碱性洗剂

² 工艺温度:RT -80±2℃ 

² 槽材质:SUS316L折弯焊接加工而成,槽底倾斜设计,加热溢流循环超声结构;

² 加热方式:通过式加热;加热器不放置于槽底,采用专用器件悬挂于外壁两侧,间接加热药液。槽底无加热器,若采用槽底加热器将会对超声效果有影响;

² 循环:溢流出的溶液通过泵从底部注入工作槽(循环管路中设置有过滤装置,过滤精度0.5um),使得药液温度更加均衡,保持工艺的稳定性。循环泵采用进不锈钢泵;

² 上液方式:自动供液;设备后部设有自动供液装置一个泵对应两个桶;共两种洗剂;其中1#和2#洗剂相同;

² 槽体内设置氮气液位传感器,分别为低、中、高液位;低于低液位报警防止无液干烧;中与高液位之间为工作液位,低于中液位自动补液,高于高液位黄灯亮警示操作人员;高于高液位声光报警,漏液警报;

² 超声方式:进口超声系统,功率可调;

² 计时功能:按下“开始”按钮,倒叙计时,可在触摸屏上直观显示工艺时间。设定精度1s。

² 排液方式:自动重力排放,排液口增加过滤装置

² 槽盖:配置有不锈钢自动槽盖

QDR槽

² 清洗液:DIW

² 槽体尺寸:设计确认 

² 槽体材质:德国进口10mmNPP板焊接而成

² 药液温度:RT

² 供水方式:自动,流量压力可调

² 排放方式:快排,直排至厂务。

² 注水时间<30S,排放时间≤5S

² 槽体形状 : 方形V 型四边溢流,喷嘴约往槽体45°倾斜,充分清洗硅片;槽体下方配有缓冲槽,废水先排至缓冲槽后在进行排放

² 工艺流程:放入工件→开始喷淋,同时快排阀打开→底部注水,同时快排阀关闭,氮气鼓泡打开→溢流漂洗+氮气鼓泡→快排阀打开,快速排放,一次冲洗快排工艺结束

² 工艺时间:1~9999秒可设定。循环冲洗次数、时间等可在触摸屏上进行设定并声光报警提示

² 上水流量、压力可调

² 排放口设有滤网防止物件堵塞管路;排放管路设置废水回收管路;

               ² 槽体底部设有匀流板



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