STRUERS司特尔TargetMaster元器件微抛光机

STRUERS司特尔TargetMaster元器件微抛光机

可见和隐藏目标的自动目标准备

TargetSystem 事实

• 微电子元件的靶材制备

• 自动可靠的目标准备

• 可见和隐藏目标的分析

• 大大缩短准备时间

• 不依赖操作员技能

• *重现性

• 无需昂贵的研磨膜

TargetSystem 设计用于微电子元件的目标制备和延迟。它是第一个允许对可见和隐藏目标（例如微孔和 BGA）进行实时对齐和测量的故障分析工具。系统精度非常出色 +/- 5.0 µm。

STRUERS司特尔TargetMaster元器件微抛光机

准备时间短

智能制备系统 (IPS) 根据实际样品特性和研磨/抛光表面自动调整去除时间和速率。这意味着更少的测量和准备时间，降至不到 30 分钟。

再现性

自动化流程使 TargetSystem 独立于操作员技能，无论操作员如何，都能确保重现性。

低运营成本

TargetSystem 可以与任何 SiC 纸或任何其他耗材一起使用，并且不需要昂贵的研磨膜。

案例故事：博世工程中心 Cluj 如何提高 5 μm 内隐藏目标制备的精度。

TargetMaster
200 毫米微抛光机，用于自动目标制备。包括用于 30 mm 样品和 200 mm MD-Disk 的可倾斜支架。

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