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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>涂胶显影设备>M+100CD-S 半自动匀胶显影机

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M+100CD-S 半自动匀胶显影机

具体成交价以合同协议为准

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半导体设备、半导体材料、电子产品、机械零配件、仪器仪表、专用机床、力学、测量检测设备、化学抛光设备的技术开发及服务;薄膜电路生产;光纤照明设备、环境试验设备的生产及销售.(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)

匀胶机,显影剂,喷胶机

  • 自动滴胶、甩胶、匀胶

  • 供胶系统

  • 排风系统

  • 可配EBR&BSR功能

  • 适用用圆片尺寸: 2”、3”、4”;以及5x5,10x10,25x25方片

  • 工艺工步:放置圆片(可辅助定中心)    启动    防溅罩到上位    真空吸片   防尘帽闭合   电机启动    吹氮气    低速滴胶    加速、高速匀胶     上刮边    下刮边

  • 电机停止    防尘帽开启    防溅帽到下位    去真空、卸片(工艺结束)以上各工步流程为自动执行,其中防尘帽、防溅帽、真空具有手动功能;

  • 主轴径向跳动≤0.02mm,轴向窜动≤0.04mm;

  • 主轴转速:200~7000转/分,误差±20转/分,连续可调;

  • 主轴加速度(空载):0~3×10³rad/秒²,连续可调; 

  • 工艺工步时间:0~999.9秒,设定增量±0.1秒;

  • 滴胶量和速度可调;


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