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化工仪器网>产品展厅>实验室常用设备>净化/清洗/消毒>清洗剂>PL311 光刻胶剥离液

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PL311 光刻胶剥离液

参考价 ¥ 200 ¥ 160 ¥ 120
订货量 1-99 100-999 ≥1000
具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称 深圳华亿科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型号 PL311
  • 产地
  • 厂商性质 生产厂家
  • 更新时间 2023/11/27 16:01:43
  • 访问次数 44

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


深圳华亿科技有限公司位于深圳市龙华新区,地处珠三角经济圈核心,地理位置优越,毗邻广深高速公路和龙大高速公路,到机场仅需30分钟,到高铁车站仅10分钟车程,交通便利。深圳华亿科技有限公司是一家专注于研发、生产、销售环保精细化工产品的企业,以开发绿色环保、安全高效的化工产品为目标,专注于表面处理技术领域,包含清洗、抛光、切削、冲压、防护等相关工艺,坚持“客户*、品质为先”的原则,努力实现与客户合作共赢、与环境和谐发展的愿景。

深圳华亿科技有限公司致力于表面处理技术的研发和应用,经营范围:等离子抛光机、等离子抛光盐、建筑模板脱模剂、混凝土脱模剂、模板漆、蓝宝石研磨液、蓝宝石切削液、蓝宝石研磨液、蓝宝石清洗剂、微乳化切削液、金属切削液、半合成切削液、全合成切削液、金属清洗剂、超声波清洗剂、中性脱脂清洗剂、金属抗氧化剂、防指纹油、铝合金三价铬钝化剂、除锈剂、防锈油、电镀助剂、可剥离遮蔽油墨、光学玻璃清洗剂、手机玻璃清洗剂、丝印玻璃清洗剂、玻璃抛光粉清洗剂、光学玻璃切削液、手机玻璃切削液、光学玻璃磨削液、手机玻璃磨削液、玻璃脱墨剂 等,涵盖多数材质加工的前处理和后处理工艺。适用于:金属加工、塑胶加工、LCD、ITO、光学玻璃加工等行业。合作客户类型:手机盖板玻璃厂,光学玻璃镜片厂,手机配件附件厂、电子数码产品厂、五金加工厂、卫浴产品厂、医疗器械厂、餐具加工厂、小家电产品厂、汽车零部件加工厂、建筑公司、混凝土制品厂等。

深圳华亿科技有限公司以科技,以诚信为本,努力打造中国环保化工品牌,为客户提供环保、安全、高效的化工产品,开拓、进取,诚信、务实。拥有完整、科学的质量管理体系,与广东、江浙等地区加工企业广泛合作,公司的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。公司全体员工将继续团结协作,以“科学创新、节能降耗、预防污染、服务客户”为企业文化,共同开创美好未来!深圳华亿科技有限公司全体同仁,欢迎各界朋友莅临参观、指导和业务洽谈!

等离子抛光机,等离子电浆抛光盐,混凝土脱模剂,建筑模板脱模剂,模板漆,金属切削液,微乳化切削液,半合成切削液,超声波清洗剂,脱脂除油剂,防锈剂,金属抗氧化剂,光学玻璃清洗剂

产地类别 国产

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光刻胶剥离液 光刻胶去胶液 抗蚀剂剥离液 光刻胶清洗剂

产品概述:

光刻胶剥离液(光刻胶去胶液)PL311是针对半导体晶圆芯片制造过程而设计,光刻胶层需要在制造过程结束时,从衬底表面去除。本品采用极性非质子有机溶剂、还原剂、阻蚀剂等成分,科学复配而成,水溶性好,表面张力低,清洗能力强,可以迅速去除光刻胶残留、其它刻蚀残留物、粉尘颗粒物、油污、手印、氧化硅抛光液残留等脏污,不引入任何污染物,洁净度高,对各种衬底材料、镀膜层、金属配线无腐蚀,无毒无刺激性气味,环保安全,对人体与环境友好。

适用范围:

光刻胶剥离液(光刻胶去胶液)PL311用于去除正型光刻胶,以及用于负片的返工处理。适用于半导体晶圆表面、LCD/OLED加工的光刻胶和CMOS图像传感器等返修芯片的红胶,以及电子设备、电子仪器的清洗。

产品特点:

1.去胶速度快,去胶能力强,可迅速去除晶圆表面和衬底金属表面的光刻胶等残留物;

2. 光刻胶剥离液(光刻胶去胶液)去除金属离子污染物、粉尘颗粒物,无残留;

3.材料相容性好,对衬底材料及金属布线无腐蚀性;

4.无毒无刺激,不燃不爆,不含ODS(臭氧层破坏物质),符合欧盟RoHS标准。

产品参数:

外观(原液) :无色透明液体

比重       1.06±0.01

PH      10—11

气味       :无

使用方法:

光刻胶剥离液(光刻胶去胶液)PL311根据不同要求原液或稀释使用,稀释比例不超过20倍;使用前请咨询我司技术人员!

温度:50-60℃    

时间:5-10分钟

注意:清洗设备建议选择高频超声波清洗,避免因频率过高震伤产品。

注意事项:

如不慎进入眼中应立即用清水冲洗,人工清洗时,请配戴防护手套;    

储存于阴凉干燥处,避免阳光直射

包装规格:

1加仑/




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