超高真空电子束蒸镀设备

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公司名称 北京瑞科中仪科技有限公司
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厂商性质 经销商
更新时间 2024/7/10 13:30:03
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北京瑞科中仪科技有限公司专注半导体材料研究分析设备的研发和应用。专业的团队，专精的服务，提供理想的解决方案。

我们长期专注于半导体材料研究与分析设备的经销和代理，为高校、企业科研工作者提供专业的分析解决方案。以专业技能为导向，用科技来解决用户在科研中遇到的难题。专业的技术工程师和科研工作者进行现场演示和技术交流，打消顾虑，彼此协作，为我国的科研领域谱写新篇章。

北京瑞科中仪科技有限公司长期代理销售供应多种分子材料的研究分析设备，其中包括但不限于扫描电子显微镜、感应耦合等离子体化学气相沉积系统、离子束刻蚀机、等离子清洗机、物理气相沉积系统以及各品牌的光学显微镜以及实验室设备仪器。

客户至上的服务理念，以人为本的企业文化，我们始终为用户提供专业的服务！

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应用领域	环保,化工,电子/电池

超高真空电子束蒸镀设备介绍

超高真空環境的特徵為其真空壓力低於10-8至10-12 Torr，在化學物理和工程領域十分常見。超高真空環境對於科學研究非常重要，因為實驗通常要求，在整個實驗過程中，表面應保持無污染狀態和使用較低能量的電子和離子的實驗技術的使用，而不會受到氣相散射的過度干擾。在這樣超高真空環境下使用電子束蒸鍍，SYSKEY可以提供高品質的薄膜。

針對超高真空和高溫加熱設計基板旋轉鍍膜機構，使用陶瓷培林旋轉，並在內部做水冷循環來保護機構以確保長時間運轉的穩定性。

超高真空电子束蒸镀设备應用领域	腔體
光學材料研究(LED/Laser Diode)。光電元件。半導體元件。	客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸和其應用。腔體為使用金屬密封圈並可烘烤至150oC。腔體的極限真空度約為10-10Torr。
配置和優點	選件
客製化的基板尺寸，最大直徑可達8吋晶圓。優異的薄膜均勻度小於±3％。具有水冷坩堝的多組坩鍋旋轉電子束源（1/2/4/6坩堝）。自動鍍膜系統。具有順序操作或共沉積的多個電子束源。基板具有冷卻（液態氮溫度低至-70°C）或加熱（溫度最高800°C）等功能。	可以與傳送腔、機械手臂和手套箱整合在一起。結合離子源、濺鍍槍、熱蒸發源、等離子清潔...。

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