新型纳米激光直写系统
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- 公司名称 苏州华维纳纳米科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号
- 产地
- 厂商性质 生产厂家
- 更新时间 2024/1/25 11:40:36
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公司简介:
苏州华维纳纳米科技有限公司是在"苏州工业园区创业人才项目"的支持下，于2011年注册成立的高科技创新型公司，公司由归国和国内的高层次人才组成，公司设有博士后流动站。公司曾先后获得国家科技部（国家重大大科学仪器设备开发专项)和姑苏、江苏省双创人才、以及苏州x-nano大科学装置等项目支持，并于2012年6月 完成首轮风险融资，并成功研发出拥有自主知识产权的三大系列新型纳米激光光刻系统，2015年被认定为高新技术企业。
公司近年来，不断加大研发力度，已经定型了LDW-P 和LDW-L两大系列新型激光直写设备，实现了激光直写设备的更新换代。该新型激光直写采用全新的技术路径提高加工分辨率，一举突破突衍射极限的限制，成功实现纳米尺度加工；突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状，可以广泛应用于各种受体材料，极大地扩展了激光直写设备的应用范围。
无掩模纳米光刻系统，激光直写设备
| 应用领域 | 化工 | 激光波长 | 405nm |
|---|---|---|---|
| 特征尺寸 | 100nm | 激光功率 | 120mW至300mW（可选） |
| 刻写范围 | 50mm×50mm至100mm×100mm（可选） |
苏州华维纳纳米科技有限公司于2011年注册成立的高科技创新型公司，公司由归国和国内的高层次人才组成，公司设有博士后流动站。
新型纳米激光直写系统采用全新的技术路径提高加工分辨率，一举突破突衍射极限的限制，成功实现纳米尺度加工；突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状，可以广泛应用于各种受体材料，极大地扩展了激光直写设备的应用范围。
新一代激光直写光刻设备特点
具有核心知识产权的国产激光直写设备
具有超越衍射极限的加工能力
新型纳米激光直写系统可适用于多种受体材料
本公司可根据客户需要提供定制设备并提供各种微纳结构样品的加工服务。
部分加工样品如下图
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