集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统
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- 公司名称 北京瑞科中仪科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号
- 产地
- 厂商性质 经销商
- 更新时间 2023/9/7 21:03:14
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应用领域 | 环保,化工,电子 |
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集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统
高产量
等离子蚀刻和沉积腔体可以与多达两个片盒站组合,用于到200 mm晶片的高产量工艺。
研发
三到六个端口传送腔室可用于集成ICP等离子刻蚀机、RIE刻蚀机、原子层沉积系统、PECVD和ICPECVD沉积设备,以满足研发的要求。样品可以通过预真空室和/或真空片盒站加载。
SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂,可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。
用于研发的SENTECH多腔系统通过图形用户界面控制软件操作。强大的控制软件可用于工业领域高产量的多腔系统。