Sutter-BV-10-锻针仪

BV-10锻针仪使用简单，可对 0.1 至 100 µm 的显微注射针尖进行精确消磨。sutter锻针仪的磨盘驱动系统可以无振动更好地控制研磨过程。

细胞内记录电极需要进行斜切处理，因为：

l  通过在电极上磨出尖点来减小针尖直径

l  由于管腔的横截面积变大，电极的电阻降低。

这样可以更容易穿透细胞外壁，显微注射针尖也需要斜切，它可以促进针尖以最小的直径进入细胞，避免损伤细胞，同时还可以增加针尖注射液体的通过性。

磨针仪的研磨系统由一个固定的基座组成，它具有半波 (250 nm) 的光滑平面，表面安装在沉重的基板上用作磨盘的轴承，磨盘的表面也是半波的光滑平面。低速电机通过履带带动底部基座，再通过磁力吸附平面磨盘从而提供无摆动的研磨表面。

一个二轴显微操作器将移液管固定在斜面上，并通过微分旋钮将移液管推到研磨表面上。斜角和推进速度可调。并且带有LED 灯为磨盘和移液管提供照明来帮助研磨操作。

磨针仪系统带有两个可选的两个磨盘、一个带支架的面布条（用于打湿磨盘）、底座油、脱脂液和手册。

有两个选件可用于监控研磨过程，一个 40X 体式显微镜和一个电极阻抗计. 根据您的研究应用来进行选购。对于研磨显微注射针的应用，需要选择体式显微镜来观察移液管前推到磨盘上的控制精度。对于微电极的应用，阻抗计用于监测研磨操作期间的针尖电阻。该仪表采用模拟电路设计，提供三个电阻范围（0-10、0-100、0-500 MOhm）。以 12 Hz 的频率进行测量，有效地减少测量阻抗，并提供最真实的直流电阻值，减小 50/60 Hz 干扰，

特征

1.         无振动、磁吸磨盘

2.         磨盘表面光滑平整度达到半波 (250 nm)

3.         具有精细的磨盘

4.         转动电机具有稳定的转速

5.         7 磅重的钢底板增加稳定性

6.         一体式LED灯

7.         显微操纵器稳定控制斜角和前推研磨