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化工仪器网>产品展厅>分析仪器>质谱>激光剥蚀进样系统>LSX-213 G2+ 213nm 固态激光剥蚀系统

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LSX-213 G2+ 213nm 固态激光剥蚀系统

具体成交价以合同协议为准

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上海仪真分析仪器有限公司(仪真分析)是专业从事于仪器研发、生产、销售、服务于一体的现代化企业,为环境监测、食品安全、石油化工和临床检测等分析实验室提供样品前处理到分析测试解决方案。


仪真分析拥有由多位留学博士、硕士和具备专业技能的技术开发及服务团队,为中国客户提供多方位的技术服务。我们致力于市场研究与应用开发,将国外分析技术及行业标准与中国发展相结合,开发出本土化的解决方案。我们的解决方案包括:全自动土壤及水质烷基汞的检测,全自动LC-GC二维在线检测食品中矿物油, 全自动食品中新型污染物监测平台对3-氯丙醇酯,缩水甘油酯,塑化剂,二噁英等实现样品前处理和检测,ICP-MS仪器进样器及激光剥蚀系统,及基于XRF的便携式、实验室及在线石油化工产品的元素分析等。


公司的管理理念、研发实力、销售网络和技术支持得到多个全球仪器生产商的广泛认可。仪真分析得到仪器公司Brooks Rand Inc., Thomas Cain (Seal Analytical) , Spark Holland , Axel Semrau , EST Analytical , LCTech , XOS , Teledyne Cetac 等公司在大中国区的授权,做为其增值供应商,负责集成与中国分析应用相关的仪器以及整体解决方案。


目前公司总部设在上海,在香港,北京设有办事处,为国内广大客户提供优质的服务,位于上海的实验室,为国内广大客户提供专业的全自动检测应用方案及培训基地。



XOS在线X荧光元素分析仪,单波长X荧光硅含量分析仪,便携式单波长X荧光硫含量分析仪,能量色散X荧光多元素含量分析仪,FREESTYLE样品前处理平台,DEXTech二噁英净化系统,MERX 全自动烷基汞分析系统

应用领域 化工,石油,地矿,能源,冶金

激光剥蚀/激光烧蚀产品线源于全球行业之一的Photon Machines团队(缩写PMI),其第一代产品于1995年问世,该品牌具有丰富的激光剥蚀产品设计、研发、制造及应用经验,产品线涉及213nm固态激光、193nm准分子激光、飞秒激光系统(与ICP-MS联用),及CO2和二极管激光熔融系统(与惰性气体同位素质谱联用),此外多种高性能配件与更加直观的分析软件能够增强并完善系统的功能,足以为全球元素分析用户提供先进的激光剥蚀技术。


LSX-213 G2+ 固态激光剥蚀系统产品特点:

LSX-213 G2+ 固态激光剥蚀系统内置性能良好密闭的泵浦灯和MIL-SPEC标准设计制造的激光源,给操作者带来非常稳定的激光能量和低维护成本,配备了高精度独立减震光学平台后,系统能够在多种苛刻环境中进行多种样品分析。

LSX-213 G2+ 使用的高性能硬件及高精度光学部件,带来效果优异的光学分辨率,达到清晰观察效果的同时并具有宽泛的视野,配备高质量、多阵列和亮度可调的透射照明和反射照明系统,确保在极大放大倍数下也能清晰观察样品。

LSX-213 G2+ 采用开放式样品池位置设计,能够兼容多种样品池,并支持用户定制样品池。软件方面可以控制内置光圈自动切换,剥蚀斑点直径范围4-200μm,系统通过与ICP通讯实时调整能量、斑点大小和扫描速度等参数。 简洁实用的结构设计,不仅提供了稳定的性能,同时具有良好的易维护性,为您提供便利高效的工作过程,实现定点——剥蚀——分析的三步目标。


213nm激光剥蚀,固态激光剥蚀

213nm激光剥蚀,固态激光剥蚀



LSX-213 G2+ 固态激光剥蚀系统技术参数:

  • 五倍频213nm Q-switched控制的Nd:YAG固态激光源,脉冲能量≥6mJ,脉冲宽度≤4ns

  • 脉冲稳定性<3%

  • 平顶激光技术,达到良好的剥蚀坑

  • 激光光路和观察光路独立设计,防止机械震动干扰和热源干扰,具有非常高的稳定性

  • 脉冲频率1-20Hz可调,输出能量1-100%可调

  • 剥蚀斑点范围4-200μm

  • 密闭且易维护的激光源设计

  • 计算机控制,连续调节的等焦面共焦点设计,显微光学放大倍数15-60x

  • 观察视野>6mm(光学分辨率<2μm)

  • 高强度LED阵列照明系统

  • 电动旋转偏振系统

  • 开放式样品池位置设计,灵活性高

  • 多种样品池可选,兼容HelEx II双体积双气路涡流样品池

  • XY平台步进分辨率0.16μm


LSX-213 G2+ 固态激光剥蚀系统应用领域:

环境样品分析,物证样品分析,农产品样品分析,同位素定性分析,生物样品分析,大体积进样定量分析,地质样品分析,样品缺陷分析,元素分布图绘制分析,透明和半透明样品分析,深度剥蚀分析。

 

 

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