CP 平台遮光罩

平台遮光罩大多数光学实验或工业生产都对系统稳定性有较高的要求。各种因素造成的振动会导致仪器测量结果的不稳定性和不准确性，严重干扰生产和实验的进行，振动来源主要分为来自系统之外的振动和系统内部的振动，地面固有振动，工作人员踩踏地板以及开、关门或墙壁碰撞等通过地面传来的振动均属系统之外的振动，这一类振动需通过光学平台的隔振支架衰减；而来自系统内部的振动包括仪器振动、气流、冷却水流等，则需依靠光学平台的桌面阻尼来隔绝。

  随着光学加工设备和测量仪器精度的不断提高， 其对工作环境的振动隔离提出了更加严苛的要求。例如，离子激光器泵浦喷流染料激光器时，激光器的振动要求达到了微米级；由于可见光波长约为0.5微米，即使振动在次微米级别时，以光的干涉为基础的实验（如全息摄影） 也将无法进行； LμmArray 公司的并行激光直写设备的直写头振动线位移不能超过15nm ;超精密机械加工的表面粗糙度要求已经达到 0.1nm  ;高精度扫面探针显微镜的双向分辨率都已达到亚纳米级。因此，对光学加工设备及光学测量仪器进行有效的隔振是保证科研生产活动正常进行的必要条件。

同时，对于大型精密光学仪器来说，其除了有近乎严苛的隔振要求外，仪器本身往往还具有较大的体积和质量，这对作为隔振基础的光学隔振平台的承载能力和工作空间也提出了更进一步的要求。因此，隔振性能好、承载能力强、工作空间大的大型或超大型精密光学隔振平台具有了较大的市场需求。

创谱仪器自主研发生产的光学隔振平台广泛的应用于精密科研光学试验、加工及测量中，是您理想的选择。

平台遮光罩杂散光会给探测器和实验带来不利的影响。对于高增益探测系统，由于信号在房间自然光情况下极易饱和，遮光材料尤其有益。在椭圆光度法和某些偏振测量技术中，背景光的调制信号对于精密测量有不利影响，遮光材料是消除这种影响的理想材料。

创谱遮光罩提供了一个不透光的操作空间，可以在里面进行图像测量、感光操作或者其它需要黑暗空间的光学测量、光路搭建。