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SUNDI-125 半导体反应腔室控温系统的使用性能

具体成交价以合同协议为准

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联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


无锡冠亚智能装备有限公司是专业从事温控设备研发、设计、生产、安装、调试、培训的企业,拥有数位在超低温、高低温开发方面具有丰富经验的高素质专业设计人员的研发队伍,开发了适用于制药化工、航空航天、新能源汽车测试等行业的温度控制产品。

 

  产品主要控温范围:-85℃~250℃,控温精度可达±0.5℃。

  公司主营产品包括:高低温一体机、超低温冷冻机、冷却循环系统、低温制冷循环器、新能源电池/电机控温系统。

  唯有产品品质的不断提升才能造就企业的生生不息,源于这—质量观,我们—直在通过提高企业产品生产品质的有效管理来提升企业自身的竞争力。我公司无论在销售、生产、售后等各方面均已建立了完善的控制系统,以确保对客户的服务达到无微不至,并通过我们的努力树立了良好的市场形象与专业口碑。

 

 

 

冷水机、冷冻机、制冷加热控温系统、新能源测试控温系统、半导体芯片控温系统、加热系统

产地类别 国产 价格区间 10万-20万
应用领域 医疗卫生,化工,生物产业,石油





型号

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介质温度范围

-10℃~+200℃

控制系统

前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器

温控模式选择

物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择

温差控制

设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定

程序编辑

可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤

通信协议

MODBUS RTU 协议  RS 485接口

外接入温度反馈

PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100)

温度反馈

设备导热介质 进口温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度

导热介质温控精度

±0.5℃

反应物料温控精度

±1℃

加热功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量压力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

压缩机

海立

艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机

膨胀阀

丹佛斯/艾默生热力膨胀阀

蒸发器

丹佛斯/高力板式换热器

操作面板

7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录

安全防护

具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。

密闭循环系统

整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。

制冷剂

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

温度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (风)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(风) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正压防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常规重量kg

115

165

185

235

280

300

电源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

选配风冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/








半导体反应腔室控温系统的使用性能

半导体反应腔室控温系统的使用性能

  半导体反应腔室控温系统是拥有制冷和加热的恒温源,通过软管与其他设备相连,作为恒温源配套使用。那么,用户再选购时就要从它的使用性能,各部分动作的平稳性、灵活与否、机身高度离地间隙等,看看是否能满足自己的工况要求,又或是经济指标是否合理、机器操作是否可靠、稳定。

  1、是用于医药生化行业实验室中提供冷源、热源以及恒温的实验条件的仪器设备。

  2、将制冷和加热集于一身,来进行实验,采用电气来来控制制冷量和加热量,让箱体内的反应温度达到用户所需温度。

  3、用于多种多台控温系统,采用了PID温度控制算法,利用单一的热交换介质来控制反应釜的反应温度,采用全密闭管路来减少反应介质的切换过程,减轻了导热介质的氧化程度,延长了导热介质的使用寿命。

  4、运用的PID控温方式可以提高设备的控温准确度,采用自动控制方式可以减少人为因素的影响,简化了设备的操作程序,也避免了操作失误对设备的影响。

  5、可以尽快响应控温中的系统滞后问题,控制系统由主回路和从回路两组构成,主回路通过控温温度变化以及梯度变化,保证达到控温的准确度。

  6、当半导体反应腔室控温系统通电时,切不可断开或者重新连接这两个部件之间的电缆。这会破坏模块的电路。

  7、从维护和安装时的方便和安全方面考虑,确保在室内机和障碍物之间有足够的空间。

  8、采用进口的压缩机来进行运作,在运作过程中吸收空气中的热量从而得到热水。通过对循环水温度的调整带动反应物体的温度进行制冷冷却。从而实现了高温低温都能进行正常反应。





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无锡冠亚的各种设备的原理以及参数仅供参考,不同客户实际拿到的设备是按照自己的工况需求与参数设计生产出来的,设备配置、价格以及型号存在一定的差异,具体以销售联系沟通为准。




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