去离子超纯水设备

去离子超纯水设备是反渗透设备跟离子交换混床或EDI相结合配套使用，离子交换混床是通过离子交换树脂在电解质溶液中进行的，可去除水中的各种阴、阳离子，是目前制取高纯水工艺流程中不可替代的手段。离子交换器分为阳离子交换器、阴离子交换器等。 当原水通过离子交换柱时，水中的阳离子和水中的阴离子（HCO3-等离子）与交换柱中的阳树脂的H+离子和阴树脂的OH-离子进行交换，从而达到脱盐的目的。阳、阴混柱的不同组合从而达到脱盐的目的。阳、阴混柱的不同组合可使水质达到更高的要求。

去离子超纯水设备的主要特点：

1.产水水质高而具有较佳的稳定度高

2.连续不间断制水，不因再生而停机。

3.模块化生产，并可实现全自动控制。

4.不须酸碱再生，无污水排放。

5.无酸碱再生设备和化学药品储运。

6.设备结构紧凑，占地面积小。

7.运行费用及维修成本低

8.运行操作简单，劳动强度低

超纯水系统进水要求

反渗透RO产水，电导率1-20μs/cm，较大允许电导率≤30μs/cm（NaCl）。

pH值： 7.5—9

温度： 15℃--35℃

进水压力（DIN）：0.15—0.4MPa

浓水进水压力（C ） 0 10 0 3MP IN）： 0.10—0.3MPa

产水压力(DOUT)：0.05—0.25MPa

浓水出水压力(COUT)： 0.02—0.2MPa

进水硬度：＜1.0ppm(以CaCO 计）(推荐0 5ppm以下）

进水有机物：TOC＜0.5ppm

进水硅：SiO2＜0.5ppm

进水总CO2：＜3ppm

进水颗粒度：＜1μm

 1、给水：RO纯水，一般水的电导率为4-30us/cm。

 2、PH：5.0-8.0(在此PH条件下，水硬度不能太高)

 3、温度：5-35℃

 4、进水压力：较大为4kg/cm2(60psi)，较小为1.5kg/cm2(25psi)。

应用领域：1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

2、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液。

3、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水。

4、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管径清洗用纯水。

5、液晶显示器的生产、平面需用纯水清洗及纯水配液。

6、晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制。

7、集成电路生产中高纯水清洗硅片、高品质显像管、荧光粉生产。

8、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路。

9、LCD、LED液晶显示屏、PDP等离子显示屏。