Bruker布鲁克 JV-QCVelox X射线衍射仪 XRD

Bruker布鲁克 JV-QCVelox X射线衍射仪 XRD

——用于 LED 和外延层晶圆分析的生产专用高分辨率 X 射线衍射系统

产 品 概 述

Bruker’的 JV-QCVelox 是长期运行的 JV-QC 仪器中新、先进的 HRXRD。
它是化合物半导体行业高分辨率 X 射线衍射的专用质量控制工具。 它适用于表征所有常见的半导体衬底，包括Si、GaAs、InP、GaN 等。
测量可以部分或*自动化运行，用户可自定义的脚本处理日常工作。

VeloMAX™ 光学器件：通过 10 倍以上的强度改进实现高生产率

JV-QC-Velox 系统的入射光束包括许多标准功能以获得高强度。 晶体选择根据材料进行了优化：

·在不损失分辨率的情况下，提高了通量并提高了可重复性。
·在不降低分辨率的情况下，可以实现比以前更快的测量和更高的精度。 这是在 MQW 分析中保持准确的成分值的关键。
·多层反射镜作为所有 JV-QC-Velox 系统的标准配置
·对于高镶嵌样品，使用 25 英寸的调节晶体发散角来增强系统（标配）
·对于传统的 III-V 系统，可以提供更高分辨率的调节晶体 (<10”) 来代替 25” 晶体（需要在采购订单上注明）
·系统的校准可以轻松安全地进行，机柜中没有开梁。

·检测器级包括许多标准功能，可以增强系统的能力
·EDRc（增强动态范围）检测器的动态范围 > 2x107
·自动衰减器，通过控制软件进行控制。这将系统动态范围增加到超过3x108

·三轴晶体是获得所需晶体的关键GaN测量的分辨率。
·电动探测器狭缝允许对系统进行控制分辨率，无需手动更换模块
·所有探测器级组件都是自动对齐的通过电脑

HRXRD 技术

材料：单晶衬底（例如 Si、GaAs、InP、GaN）和外延
层，包括多层结构
参数：层厚度、成分和松弛、应变、区域均匀性、失配、掺杂剂水平、错切、层倾斜。
·直接测量多层结构内层的松弛/应变/组成
·自动样品校准、测量、分析和报告

·由 JV-RADS 软件执行的分析。
·化合物半导体衬底可实现对称、非对称和斜对称反射

VeloSWAP: 高级样品板

运动学样品板：可以快速更换样品板——每个板都可以在几秒钟内移除/更换。 由于运动加载，安装后无需对齐板。 可以提供多个板并互换使用。
·31 x 2” 运动学样品板，用于大批量测量，以增加板重新加载之间的
时间并提高生产力和工具效率。
·外部条码阅读器可以安装到工具或独立站。

JV-QCVelox 配备机器人，可从晶圆盒进行全自动测量

·2” 至 200 毫米磁带
·自动检测晶圆盒尺寸
·任意数量插槽的任意配方组合
·提高更大晶圆尺寸的生产力
·无需人工处理晶圆，提高晶圆清洁度

bruker布鲁克 JV-QCVelox X射线衍射仪 XRD产品规格