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莱普泰科(北京)环境科技有限公司

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美国恩科优N&Q系列光刻机8006

具体成交价以合同协议为准

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


 

本公司主要从事半导体进口设备及辅助材料、医疗检测设备等多领域的销售,是一家集研发、制造、销售为一体的企业。我们的主营业务涉及了研发销售及加工材料及周边产品;电子光电产品设备研发组装及销售,半导体仪器设备销售;国内贸易、货物及技术进出口;医疗器械研发及销售;医用耗材及医疗用品的销售等

品牌:恩科优(N&Q

型号:NXQ800-6

产地:美国

美国恩科优N&Q系列光刻机8006(图1)




恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,N&Q8000系列光刻机是以自动系统为主。该系统优越的操作性,超高的分辨率,均匀的光学系统,现代*的接近式和接触式光刻及超高的性价比,使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用,并成为他们光刻系统的;



二、技术参数:

1、芯片尺寸:5mm~150mm的圆片/方片和不规则碎片(支持对不规则碎片的特殊卡盘设计);

2、曝光波长:350nm-450nm(其它波长可选配);

3、汞灯功率:350W/500W(其它功率可选配);

4、分辨率:优于0.5um

5、曝光模式:支持接近式曝光,各种接触式(真空接触、软接触、硬接触等)曝光;

6、出射光强范围:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm

7、支持恒定光强或恒定功率模式;

8、曝光时间:0.1~999.9s

9、对准精度:双高清彩色CCD + 双高清彩色监视器,对准精度可达到0.4微米内;

10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器)

11、光强均匀性Uniformity

<±1% over 2 区域;

<±2% over 4 区域;

<±3% over 6 区域;

12、双面光刻:具备背面红外对准(IR BSA)和光学背面对准(OBS BSA),双面对准精度≤2μm

13、电源:高灵敏度光强可控电源。

可选型号:

NXQ400-6

NXQ400-8

NXQ800-6

NXQ8006 Sapphire

NXQ800-8


三、产品特点:

可选支持单面对准和双面对准设计;

高清晰彩色双CCD镜头采用的分裂视场显微镜镜头(基于无限远修正的CCD镜头设计);双头高清全彩物镜(单视场或分裂视场可供用户灵活选择);

高清彩色双显示屏;

全新气动轴承导轨设计,高精准,低磨损,无需售后维护的;

具有自动执行楔形误差补偿,并在找平后自动定位功能;

操作简易,具有支持多操作员同台使用的友好操作界面;

操控手柄调控模式的*设计;

采用LED穿透物镜照明技术,具有对准亮度;

采用基于无限远修正的显微镜镜头架构;

抗衍射反射的高效光学光路设计;

带安全保护功能的温度和气流传感器;

全景准直透镜光线偏差半角: <1.84度;

设备稳定性,耐用性超高;





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