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化工仪器网>产品展厅>实验室常用设备>制样/消解设备>离子溅射仪>KT-Z1650CVD 高纯度金靶材磁控溅射仪

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KT-Z1650CVD 高纯度金靶材磁控溅射仪

具体成交价以合同协议为准

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联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


郑州科探仪器设备有限公司是集开发、制造、经营为一体的材料创新型企业,如今公司的产品已经遍布国内大多数实验室 及*校,科探仪器已经成为老师 同学欢迎和信任的品牌之一

公司以科技创新为主,服务社会为宗旨,积极设计开发新型材料制备设备,奉献于教育和科学,经过长期的研发和不断地技术积累,拥有热工,制造,控制相关技术10余项,为化学,物理,材料,电子,高分子工程,新材料制备和研发领域的科学研究提供了精良设备。公司通过和院校老师 同学强强联合,形成了有效的信息,技术交流平台,为科探仪器了解市场需求提供了强有力的支持!。

目前公司已研发生产产品十多个系列几十款产品,产品囊括实验电炉、CVD供气系统、等离子清洗机、小型离子溅射仪、小型蒸镀仪等,主要适用于科研院校及工矿企业在新材料、新能源等领域物理特性及化学特性的研究,广销于各大院校,及材料研究所。

公司与国内高校,科研院所有多层次的合作关系,建有开放实验室,相关领域的教授、高级工程师、博士参与公司产品的研究和开发。我们秉承公司的发展理念,依靠严谨的技术研发能力,科学合理的生产工艺,精益求精的制造要求,全心全意做好产品质量和服务工作,科探仪器时刻怀着一颗真诚的心期待与您的合作。







实验室设备 真空设备 仪器仪表 电子元器件 五金交电实验室设备安装

靶材材质 金 铂 铜 银 靶材尺寸 50mm
产地类别 国产 价格区间 1-5万
溅射气体 根据需求气体 控制方式 触摸屏智能控制
样品仓尺寸 φ160x160mm 样品台尺寸 φ50mm
应用领域 化工,电子

高纯度金靶材磁控溅射仪

在不同的蒸发速率下沉积300nmAu薄膜,研究蒸发速率对薄膜表面形貌和性能的影响。随着蒸发速率的提高,薄膜的结构变得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度减小。金薄膜方阻随着蒸发速率提高无明显变化,而方阻均匀性变差,但在可接受的范围内。但蒸发速率过高会引起金属大颗粒增多。因此,选用适合的蒸发速率对Au膜质量有很大影响。


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高纯度金靶材

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应用领域:

离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛,通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象,并提高观测效率,另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳,实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。

高纯度金靶材磁控溅射仪KT-Z1650PVD厂家供应技术参数;

控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

溅射电源

直流溅射电源

镀膜功能

0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

功率

≤1000W

输出电压电流

电压≤1000V  电流≤1A

真空

机械泵 ≤5Pa(5分钟)   分子泵≤5*10^-3Pa

溅射真空

≤30Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm

样品台

可旋转φ62  (可安装φ50基底)

样品台转速

8转/分钟

样品溅射源调节距离

40-105mm

真空测量

皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa  1E-1Pa)

预留真空接口

KF25抽气口    KF16放气口   6mm卡套进气口








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