Ted Pella TEM支持膜
- 公司名称 广州竞赢科学仪器有限公司
- 品牌 TedPella/美国
- 型号
- 产地
- 厂商性质 代理商
- 更新时间 2021/11/9 16:32:53
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| 供货周期 | 现货 | 应用领域 | 生物产业,农业 |
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| Ted Pella TEM支持膜一般能用肉眼分清正反面，比较有光泽的是正面，暗淡的是反面，大多数类型的支持膜都覆在正面。 纯方华膜：正面覆有一层方华膜，适用于低倍显微镜，中镜说的是最高100kv下使用，适合看超薄切片样品。货号01700-F到01707-F ，铜网目数200到400目和单孔环，材质有铜、金。 普通碳支持膜：方华膜上又覆了一层碳膜，应用范围比方华膜广，用于常规检测20-5Onm尺度样品，不适用于需要高温加热的，其他都适合，特别适合细胞碎片悬浮液、薄截面观察和复型膜观察.货号01802-F到01807-F，铜网目数200到400目和单孔环，材质有铜、金、镍。描述中带有TH的，表示用的铜网是加厚的。 B型碳膜：相比普通碳支持膜，B型碳膜覆的碳膜更厚，所以更适合在高倍数的200kv到300kv电镜下工作，不适用于需要高温加热的，其他都特别适合。货号01810到01816，铜网目数200到400目，材质有铜、金、镍、钼。描述中带有TH的，表示用的铜网是加厚的。 A型碳膜：正面覆了碳膜，反面覆了方华膜，可以用溶液去除掉反面的方华膜。正常的A型碳膜厚度是15至25nm，300目铜网，货号为01820和01821，去掉了方华膜的碳支持膜就相当于纯碳支持膜。还有碳膜厚度为3nm左右的A型超薄碳膜，400目铜网，货号01822，a型超薄碳膜在去掉方华膜后，可用于纳米材料和生命科学低温免疫电镜的研究，特别适合于分散性好、粒径小、衬度弱的纳米材料样品（纳米晶、量子点等），也适合用于带有机包覆层或无定型包覆层核壳结构之类的纳米材料，可得到高质量的低倍形貌像以及较高质量的高分辨像，同样也适合于有机溶剂作为分散剂来处理的样品.另外还有在微栅支持膜上覆超薄碳膜的超薄碳支持膜，相当于它的正面有两层碳膜，下面是微栅膜，上面的是3nm左右的超薄碳膜，货号01824，400目铜网，01824G，300目金网,适合小颗粒样品高分辨率观察。 Ted Pella TEM支持膜 ----纯碳支持膜：没有方华膜，铜网正面只有一层15-25nm的碳膜。货号从01840到01844，目数200目到400目，材质铜、镍、金、钼、铝合金、不锈钢。纯碳支持膜也适用于大部分的电镜检测，可以高温加热，适合于有机溶剂作为分散剂来处理的样品。 |
| 氧化硅膜：带有方华膜的铜网上覆一层氧化硅膜，膜的韧性比碳支持膜强，疏水性比较小，货号01830两百目铜网，01832，三槽铜网。A型氧化硅膜，跟a型碳膜类似，正面是氧化硅膜，反面是方华膜。货号01829，300目铜网。 微栅支持膜：微栅膜是膜的表面有大小不一的孔洞，孔的大小从四分之一微米到10微米不等，可以提高样品的高衬度成像，一般用于高分辨率电子显微镜纳米病毒细菌颗粒观察。普通微栅膜，铜网正面有一层微栅方华膜和一层微栅碳膜，货号01881到01885，目数200目到400目，材质铜、金、镍。A型微栅膜，正面一层微栅碳膜，反面一层微栅方华膜，可用溶剂去除方华膜，货号01890，300目铜网。氧化硅微栅膜，铜网正面一层方华微栅膜和一层氧化硅微栅膜，货号01887-F，300目铜网。纯碳微栅膜，铜网正面只有一层微栅碳膜，货号01894到01896，目数200目到400目，材质铜、金、镍。 石墨烯支持膜：非常适合高分辨率成像，纳米颗粒成像和弱对比材料/界面成像。基底材料有300目纯碳微栅支持膜、2000目铜网+Synaptek 1 x 2mm单孔环、多孔氮化硅膜、单面抛光二氧化硅片，石墨烯膜有单层（厚度0.35nm），2层（厚度0.7nm），3-5层（厚度1.0-1.7nm）和6到8层（厚度2.1-2.8nm）。货号21710-5到21626-25。氧化石墨烯支持膜：亲水性强，比石墨烯支持膜更适合生命科学应用和研究，可用于聚合物、大分子和生物样品的成像分析并且不需要重金属染色。基底材料有300目纯碳微栅支持膜、多孔氮化硅膜、单面抛光二氧化硅片，氧化石墨烯膜有单层（厚度0.8-1.2nm），2层（厚度1-1.5nm）。货号21810-5到21642-25。 |
氮化硅支持膜：氮化硅支持膜是硅片上生长了一层氮化硅,氮化硅支持膜主要用于纳米技术和分子生物研究，它的优点是化学和机械性能稳定耐腐蚀，可以承受高达1000°C的温度变化。适合直接在氮化硅支持膜上对颗粒或细胞进行各种纳米技术实验。应用领域：FIB样品支撑，细胞生物学（附着的细胞可以直接在支持膜上的环境中生长，然后进行分析）、分析胶体，气溶胶，纳米颗粒、自组装单层、高分子研究、薄膜研究（直接沉积在氮化硅支持膜上）、材料科学、半导体器件的纳米结构的性质、半导体：薄膜表征、催化剂研发。膜厚度：弹性，超低应力8、15、35或50nm，可产生最小吸收，从而实现清晰的成像；坚固，低应力的100nm和200nm，可在多个平台上更好地处理和使用；窗口尺寸： 0.25 x 0.25mm，0.5 x 0.5mm，0.75 x 0.75mm，1.0 x 1.0mm，0.5 x 1.5mm以及具有3 x 3阵列的9个0.1 x 0.1mm窗口或2个0.1x 1.5毫米窗口的窗口版本。较大的窗口可提供更大的可视区域，例如，可以实现层析成像应用所需的更大的倾斜角度。具有多个窗口的版本允许将多个样本安装在单独的窗口上。表面粗糙度： RMS（Rq）为0.65 +/- 0.06nm，平均粗糙度（Ra）为0.45 +/- 0.02nm。货号21510-10到21579-10。 亲水性氮化硅支持膜：亲水性表面使水溶液在支持膜上的润湿性和分散性得到改善，避免了使用亲水性较差支持膜时常出现的颗粒团聚现象，尤其适用于水溶液与生命科学研究。货号21553-10到21551-10。 疏水性氮化硅支持膜：疏水表面改善了溶解或悬浮在有机溶剂中的材料的制样效果。有机溶剂中的纳米颗粒（例如碳纳米管）易于分散在氮化硅膜表面。货号21593-10到21591-10。 CLEM氮化硅支持膜:拥有两个平行断面的氮化硅支持膜，该框架有助于样品对齐，方便做光电关联显微镜实验。CLEM窗口的厚度为200µm，直径为3mm，两侧有两个1mm长的平行平边缘。氮化硅膜有四种不同的厚度：15 nm，50 nm，100 nm和200 nm，孔径范围从0.1 x 0.1mm到1 x 1mm。货号21560CL-10到21528CL-10和21518-10. 多孔氮化硅支持膜：用MEMS制造工艺制造的多孔氮化硅支持膜，该多孔氮化硅支持膜是在3mm的硅片上有一个0.5mm x 0.5mm的窗口，窗口上有一张的低应力厚度为200nm的无定形氮化硅阵列孔支持膜。共有十二种孔径可供选择，范围从100nm至5μm，阵列孔数90 x 90到1125 x 1125个。货号21536-10到21585-10。 氮化硅X射线支持膜：尺寸分为10mm和5mm氮化硅片以及0.5mm，1mm或2mm单方形窗口。氮化硅膜厚度为50、100或200nm。货号21901-10到21929-10。 二氧化硅支持膜：二氧化硅支持膜是硅片上生长了一层二氧化硅,3mm氮化硅片上0.5 x 0.5mm窗口上的二氧化硅膜，膜厚分为40nm，18nm和8nm，孔径大小/数量：40 nm时50 x 50µm / 24孔，18nm时60 x 60µm / 24孔，8nm时70 x 70µm / 24孔。表面粗糙度：RMS（Rq）为0.65nm，平均粗糙度（Ra）为0.41 nm。应用领域：纳米材料的沉积和生长。薄膜分析和表征。催化剂的研发。支持FIB薄片。半导体材料的表征。研究附着的生物分子。货号21530-10到21532-10. |
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