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化工仪器网>产品展厅>光学仪器及设备>电子显微镜>扫描电镜(SEM)>Quattro 扫描场发射电镜

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Quattro 扫描场发射电镜

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北京欧波同光学技术有限公司成立于2003年,是一家材料分析数字化解决方案服务商。在持续发展的过程中,欧波同集团始终坚持“让实验更简单”的发展主线,不断完善在工业领域能够提供的多样技术服务。欧波同始终坚持以技术服务为宗旨,不断发展成为工业分析行业的技术型企业。旗下拥有科学仪器销售、智慧实验室解决方案、第三方检测服务、技术服务等业务板块。 在我国科研领域发展的关键时期,欧波同充分利用互联网大数据概念,通过持续的科研投入,掌握计算机视觉和图像识别技术,实现AI技术和工业分析技术的跨界融合,加快工业分析领域的场景化发展进程。


北京欧波同光学技术有限公司(OPTON)-主营进口扫描电子显微镜、双束聚焦离子束显微镜、赛默飞扫描电镜、场发射扫描电镜、聚焦离子束电镜、赛默飞双束电镜、台式扫描电镜、FEI扫描电镜、FIB扫描电镜、FIB双束电镜、TEM透射电镜、球差电镜、工业三维扫描仪、氩离子抛光测试及制样设备中国区授权代理商



扫描电镜,FIB双束电镜,环境扫描电镜,STEM透射电镜

品牌 FEI/赛默飞 价格区间 面议
仪器种类 场发射 应用领域 化工,石油

扫描场发射电镜简介:

       为具有独特环境真空功能的灵活、多功能高分辨率扫描电镜,可以将成像和分析全面性能与环境模式(ESEM)相结合,使得样品研究得以在自然状态下进行。

     场发射电子枪(FEG)确保了优异的分辨率,通过不同的探测器选项,可以调节不同衬度信息,包括定向背散射、STEM和阴极荧光信息。来自多个多个探测器和探测器区分的图像可以同步采集和显示,使得单次扫描即可获得样品信息,从而降低电子束敏感样品的束曝光并实现真正额动态试验。Quattro的三种真空模式使得系统具有灵活性,可以容纳广泛的样品类型,无论样品导电、绝缘、潮湿或是在高温条件下,均可获得可靠的分析结果。Quattro独特的硬件有用户向导支持,不仅可以指导操作者,还可以直接进行交换,轻松缩短结果获取时间。

扫描场发射电镜参数:

金属及合金、断口、焊点、抛光断面、磁性及超导材料
陶瓷、复合材料、塑料
薄膜/涂层
地质样品断面、矿物
软材料:聚合物、药物、滤膜、凝胶、生物组织、植物材料
颗粒、多孔材料、纤维
水合/脱水/湿润/接触角分析
结晶/相变
氧化/催化
材料生成
拉伸(伴随加热或冷却)


发射源:高稳定型肖特基场发射电子枪

分辨率:

型号

Quattro C

Quattro S

高真空

30kV(SE)

1.0nm

1kV(SE)

3.0nm

低真空

30kV(SE)

1.3nm

3kV(SE)

3.0nm

30kV(BSE)

2.5nm

环境扫描模式

30kV(SE)

1.3nm


放大倍率:6 ~ 2,500,000×
加速电压范围:200V ~ 30kV
探针电流范围:1pA – 200nA,连续可调
X-Ray工作距离:10mm,EDS检出角35°
样品室:从左至右为340mm宽的大存储空间,样品室可拓展接口数量12个,含能谱仪接口3个(其中2个处于180°对角位置)


样品台和样品:

探测器系统:

同步检测多达四种信号,包括

样品室高真空二次电子探测器ETD
低真空二次电子探测器LVD
气体SED(GSED,用于环境扫描模式)
样品室内IR-CCD红外相机(观察样品台高度)
可用于样品导航的彩色光学相机Nav-Cam™


控制系统:
操作系统:64为GUI(Windows10)、键盘、光学鼠标
图像显示:24寸LCD显示器,WUXGA 1920×1200
定制化的图像用户界面,可同时激活多达4个视图
导航蒙太奇
软件支持Undo和Redo功能


特点与用途:

     在自然状态下对材料进行预案为研究,具有环境真空模式(ESEM)的独特高分辨率场发射扫描电镜;

     缩短样品制备时间:低真空和环境真空技术可针对不导电和/或含水样品直接成像和分析,样品表面无荷电累积;
     在各种操作模式下分析导电和不导电样品,同步获取二次电子像和背散射电子像;
优良的分析性能,样品仓可同时安装3三个EDS探测器,其中2个EDS端口分开180°、WDS和共勉EDS/EBSD;
      针对不导电样品的分析性能:凭借“压差真空系统”实现低真空模式下的EDS和EBSD分析;
      灵活、准确的优中心样品台,105°倾斜角度范围,可多方位观察样品;
软件直观、简便易用,并配置用户向导及Undo(撤销)功能,操作步骤减少,分析更快速;
      全新创新选项,包括可伸缩RGB阴极荧光(CL)探测器、1100℃高真空热台和AutoScript。




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