nanoArch S130 光刻技术
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- 公司名称 深圳摩方新材科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号 nanoArch S130
- 产地 广东深圳
- 厂商性质 生产厂家
- 更新时间 2023/11/20 9:38:41
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| 应用领域 | 医疗卫生,食品,生物产业,电子,制药 | 光学精度 | 2μm |
|---|---|---|---|
| 打印材料 | 光敏树脂 | 打印层厚 | 5-20μm |
| 最大打印尺寸 | 50mm(L)×50mm(W)×10mm(H) | 光源 | UV?LED(405nm) |
一、3D光刻技术介绍
摩方PµSL是一种微米级精度的3D光刻技术，这一技术利用液态树脂在UV光照下的光聚合作用，使用滚刀快 速涂层技术大大降低每层打印的时间，并通过打印平台三维移动逐层累积成型制作出复杂三维器件。
在三维复杂结构微纳加工领域，BMF Material团队拥有超过二十年的科研经验，针对客户在项目研究中可能出现的工艺和材料难题，我们将持续提供简易高效的技术支持方案。
二、3D光刻技术功能介绍
*的薄膜滚刀涂层技术允许更高的打印速度，使打印速度最高提升10倍以上；
能够处理高达20000cps的高粘度树脂，从而生产出耐候性更强、功能更强大的零部件；
能够打印工业级复合聚合物和陶瓷光敏材料，包括与巴斯夫合作开发的全新功能工程材料。
三、微纳3D打印系统打印材料
通用型
丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA等。
工业级复合聚合物，例如高粘度树脂、陶瓷浆料等。
个性化
高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。
采购中心
化工仪器网