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光固化3D打印

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摩方精密(BMF, Boston Micro Fabrication)是全球微尺度3D打印技术及精密加工能力解决方案提供商。专注于精密器件免除模具一次成型能力的研发,提供制造复杂三维微纳结构技术解决方案,同时,可结合不同材料及工艺,实现终端产品高效、低成本批量化生产及销售。

 

在科研领域,摩方自主研发的3D打印系统已被美国Hughes Research Laboratories 、麻省理工、新加坡南洋理工、英国诺丁汉、德国德累斯顿工大、清华、北大、上海交大、浙江大学、南京大学、北航、西交大、中科大、华中科大、港中文、港城大、阿联酋哈里发大学、丹麦科技大学、德国于利希研究中心等众多全球顶级高校和科研机构使用。

 

在工业领域,作为专注于高精密增材制造领域的企业,摩方公司已和众多全球500强企业开展业务合作,包括GE医疗、Merck、美国强生、日本电装、安费诺、3M、泰科、华为、立讯、中石油等,产品广泛应用于连接器、内窥镜、医疗器械、消费电子、包装和通讯等行业。

 

 

微纳3D打印,高精密光固化3D打印机,类器官芯片,陶瓷贴片,

应用领域 医疗卫生,食品/农产品,生物产业,电子/电池,制药/生物制药 光学精度 2μm
打印材料 光敏树脂 打印层厚 5-20μm
最大打印尺寸 50mm(L)×50mm(W)×10mm(H) 光源 UV?LED(405nm)

一、光固化3D打印产品介绍

设备采用面投影微立体光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技术,该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。




二、光固化3D打印基本参数

光源:UV-LED(405nm)

打印材料:硬性树脂、耐高温树脂、韧性树脂、生物兼容性树脂等

光学精度:2μm

打印层厚:5-20μm

打印尺寸:

①模式一:3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)(单投影模式)

②模式二:38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)(拼接模式)

③模式三:50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)(重复阵列模式)

文件格式:STL

系统外形尺寸:1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量:550kg

电气要求:200-240V AC,50/60HZ,3kW


三、应用领域

nanoArch S130 2μm精度微纳3D打印系统可广泛应用于力学超材料、生物医疗、微机械结构、微流控、三维复杂仿生结构等领域。

作为微纳3D打印行业,在三维复杂结构微纳加工领域,BMF Material团队拥有超过二十年的科研经验,针对客户在项目研究中可能出现的工艺和材料难题,我们将持续提供简易高效的技术支持方案。




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