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摩方精密3D打印

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摩方精密(BMF, Boston Micro Fabrication)是全球微尺度3D打印技术及精密加工能力解决方案提供商。专注于精密器件免除模具一次成型能力的研发,提供制造复杂三维微纳结构技术解决方案,同时,可结合不同材料及工艺,实现终端产品高效、低成本批量化生产及销售。

 

在科研领域,摩方自主研发的3D打印系统已被美国Hughes Research Laboratories 、麻省理工、新加坡南洋理工、英国诺丁汉、德国德累斯顿工大、清华、北大、上海交大、浙江大学、南京大学、北航、西交大、中科大、华中科大、港中文、港城大、阿联酋哈里发大学、丹麦科技大学、德国于利希研究中心等众多全球顶级高校和科研机构使用。

 

在工业领域,作为专注于高精密增材制造领域的企业,摩方公司已和众多全球500强企业开展业务合作,包括GE医疗、Merck、美国强生、日本电装、安费诺、3M、泰科、华为、立讯、中石油等,产品广泛应用于连接器、内窥镜、医疗器械、消费电子、包装和通讯等行业。

 

 

微纳3D打印,高精密光固化3D打印机,类器官芯片,陶瓷贴片,

应用领域 医疗卫生,食品/农产品,生物产业,电子/电池,制药/生物制药 光学精度 10μm

一、摩方精密3D打印产品介绍

nanoArch®是采用PUSL(面投影微立体光刻)技术,用于实现高精度多材料微纳尺度3D打印的设备。通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化,逐层累加从而完成产品的制作。通过一次曝光可以完成一层的制作。

科研级3D打印系统,拥有超高打印精度和超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。


二、摩方精密3D打印产品特性

1、可定制高定位精度的光学系统和运动平台,两者最高分辨率皆可达到20μm。

2、采用图像拼接成型方式解决成型精度与大尺寸成型之间的矛盾。

3、通过工艺技术控制,实现3D打印成品的表面光滑。

4、光学方面:光学实时监控,实现自动对焦及曝光补偿。

5、软件系统:nanoArch图形界面控制系统,参数端口开放。


三、使用环境要求

1、需避免的场合:

垃圾、灰尘、油雾多的场所;

震动以及冲击多的场所;

能触及药品和易燃易爆物的场所;

高频干扰源附近的场所;

温度会急剧变化的场所;

在CO2、NOX、SOX等浓度高的环境中。

2、环境湿度:40%-60%

3、环境温度:25±3℃

4、电力需求:

100-240V/单相/50/60Hz/15A;

供电电网波动:<5%;

电网地线符合机房国标要求。


摩方精密3D打印




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