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化工仪器网>产品展厅>光学仪器及设备>光学显微镜>激光共聚焦显微镜> NS3500 G 大型非接触式3D激光扫描仪

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NS3500 G 大型非接触式3D激光扫描仪

具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称 上海巨纳科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型号
  • 产地 대전 유성구
  • 厂商性质 生产厂家
  • 更新时间 2021/8/19 13:14:45
  • 访问次数 1360

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上海巨纳科技有限公司是巨纳集团旗下科学仪器事业部。巨纳集团SUNANO GROUP产业格局包括新能源业务、通信业务、现代贸易业务、微纳米业务、科研检测业务、投资管理业务等。旗下上海巨纳科技有限公司是集多种高科技产品的研发、生产、销售为一体的企业,同时是多家世界高科技公司在中国的总代理。2015年起正式并入巨纳集团科学仪器事业部体系并作为其大陆运营主体。

巨纳集团科学仪器事业部,主要致力于研究开发和整合仪器设备,从事表面科学、分析仪器、生命科学设备、光伏设备及实验室仪器的设计、开发和制造及分销;为科研、教育、检测及生产提供完整可靠的解决方案,已经成为了众多高校和企业的优质供应商。

近年来巨纳集团科学仪器事业部先后收购了高纯水机、光学平台、真空干燥箱等制造企业,创立了SUNANO、NextCVD、低维材料在线91cailiao、FIPHENE、GRCC等品牌,并与韩国Nanoscope System、日本HORIBA、英国Oxford Instruments、美国CRAIC、法国PhaseView、瑞士LynceeTec等品牌深入合作,加强了公司产品的多样化。


巨纳集团科学仪器事业部为您的研究与分析提供先进工具与解决方案:

光学光谱·分子光谱·元素分析·表面测量·颗粒表征·光学平台·激光共聚焦显微镜·激光荧光共聚焦显微镜·共焦激光拉曼光谱仪·便捷式激光拉曼光谱仪·椭圆偏振光谱仪·激光粒度仪·多功能宽密度等离子体ICP-LP-PE-CVD·碳/硫分析·氧/氮/氢分析·等离子体发射光谱仪·辉光放电光谱仪··全息数字显微镜··高纯水机··各类干燥箱/培养箱/离心机/搅拌器/高速分散器/水浴锅/振荡器/低温槽/加热槽·低维材料等。

韩国Nanoscope Systems是激光共聚焦显微镜开发商和制造商,拥有微纳米尺度上的光学表面测量技术,主要产品激光共聚焦显微镜和激光荧光共聚焦显微镜广泛用于工业领域和科学研究中的三维测量和检查,为三星、LG、SK海力士、韩华集团、V-technology等世界企业提供精密的解决方案。作为共聚焦显微技术的开发者和提供者,韩国Nanoscope System致力于以更高的分辨率、更高速度的三维测量的新技术。 除了半导体、FPD、MEMS、OLED、太阳能、材料等领域,加上荧光和热反射功能,在生物、化学和医疗领域也有出色的应用。巨纳作为韩国Nanoscope System在中国区域的总代理,全面负责经营销售及售后服务等业务。


拉曼光谱仪,3D显微镜,分光光度计,辉光放电,ICP,

产地类别 进口 价格区间 面议
应用领域 能源,电子,航天,汽车,电气 激光 405nm

NS3500G 大型非接触式3D激光扫描仪

NS-3500G 是一种可靠的三维非接触式扫描仪。通过快速光学扫描模块和信号处理算法实现实时共焦显微图像。在测量和检测微观三维结构,如半导体晶片,FPD产品,MEMS设备,玻璃基板,材料表面等方面拥有*的解决方案。    

   


Features & Benefits(性能及优势):

  • 高分辨无损伤光学3D测量                               自动倾斜补偿

  • 实时共焦成像                                                 简单的数据分析模式

  • 多种光学变焦                                                 双Z扫描

    大范围拼接                                                    半透明基材的特征检测

  • 实时CCD明场和共聚焦成像                            无样品准备

  • 自动聚焦


Application field(应用领域):

NS-3500是测量低维材料的有前途的解决方案。

可测量微米和亚微米结构的高度,宽度,角度,面积和体积,例如

-半导体:IC图形,凹凸高度,线圈高度,缺陷检测,CMP工艺

- FPD产品:触摸屏屏幕检测,ITO图案,LCD柱间距高度

- MEMS器件:结构三维轮廓,表面粗糙度,MEMS图形

-玻璃表面:薄膜太阳能电池,太阳能电池纹理,激光图案

-材料研究:模具表面检测,粗糙度,裂纹分析


Specification(规格):

Model

Microscope  NS-3500

备注


Controller    NS-3500E

物镜倍率

10x

20x

50x

100x

150x


观察/  测量范围  

水平 (H): μm

1400

700

280

140

93


垂直 (V): μm

1050

525

210

105

70


工作范围: mm

16.5

3.1

0.54

0.3

0.2


数值孔径(N.A.)

0.30

0.46

0.80

0.95

0.95


光学变焦

x1 to x6


总放大倍率

178x to 26700x


观察/测量光学系统  

针孔共聚焦光学系统


高度测量

测量扫描范围

长扫描 : 10mm [NS-3500-T]


显示分辨率

0.001 μm


重复率 σ

0.010 μm

注 1

宽度测量

显示分辨率

0.001 μm


重复率 3σ

0.02 μm

注 2

帧记忆

像素

1024x1024, 1024x768, 1024x384,   1024x192, 1024x96


单色图像

12 bit


彩色图像

8-bit for RGB each


高度测量

16 bit


帧速率

表面扫描

20 Hz to 160 Hz


线扫描

~8 kHz


自动功能

自动增益


激光共焦测量光源

波长

405nm


输出

~2mW


激光等级

Class 3b


激光接收元件

PMT (光电倍增管)


光学观察光源

10W LED


光学观察照相机

成像元件

1/2” 彩色图像 CCD 传感器


记录分辨率

640x480


自动调整

增益, 快门速度, White balance


数据处理单元

PC


电源

电源电压

100 to 240 VAC, 50/60 Hz


电流消耗

500 VA max.


重量

显微镜

Approx. ~200 kg

(Measuring head unit : ~12 kg)


控制器

~8 kg



注1 :以100×/ 0.95物镜对标准样品(步长1μm)进行100次测量                                                                    

注 2 :以100×/ 0.95物镜对标准样品(5μm间距)进行100次测量。






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