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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>热工艺设备/热处理设备>退火炉> 全自动12英寸多腔体快速退火炉RTP

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全自动12英寸多腔体快速退火炉RTP

参考价 ¥ 5000000
订货量 ≥1
具体成交价以合同协议为准

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


量伙半导体设备(上海)有限公司成立于2018年,位于上海市浦东新区,公司专注于半导体芯片设备的研发、生产和销售。

目前我司自主研发的快速退火炉RTP设备已具备国内*的技术水平,在研究所、芯片生产企业得到了广泛应用。

快速退火炉

产地类别 国产 应用领域 综合
退火温度均匀性 ±1% 降温速率 30℃/s
温度范围 1000℃ 退火温度准确性 0.5℃
最高升温速率 100℃/s 样品尺寸 最大支持 300mmx300mm 样品
仪器种类 高真空快速退火炉

设备规格:

全自动操作模式,机械手臂自动上片取片;

多腔体生产模式,单个腔体适应于 2英寸-12英寸 晶圆或者*支持 300mmx300mm 样品;

退火温度范围 300℃-1000℃;

升温速率 ≦100℃/sec(裸片);

温度均匀性 ≦±1%;

真空腔体(可选配常压腔体或正压腔体);

冷却方式包括水冷和氮气吹扫;

MFC控制,3-5路制程气体。

 

应用领域:

快速热处理(RTP),快速退火(RTA),快速热氧化(RTO),快速热氮化(RTN);

离子注入/接触退火;

金属合金;

热氧化处理;

化合物合金(砷化镓、氮化物等);

多晶硅退火;

太阳能电池片退火;

高温退火;

高温扩散。

 

相关分类

氧化扩散设备


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