nanoArch S140 Pro 微纳3d打印供应

nanoArch S140 Pro微纳微纳3d打印供应由深圳市摩方材料科技有限公司自主研发的高精密微纳3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业少数能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。PμSL技术使用高精度紫外光刻投影系统，将需打印模型分层投影至树脂液面，快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂工业样件。该技术具有成型效率高、加工成本低等突出优势，被认为是目前具有前景的微尺度加工技术之一。

nanoArch S140 Pro微纳微纳3d打印供应基本参数：

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：硬性树脂、耐高温树脂、韧性树脂、生物兼容性树脂等

光学精度：10μm

打印层厚：10-40μm

打印尺寸：

①模式一：19.2mm(L)×10.8mm(W)×45mm(H)（单投影模式）

②模式二：94㎜(L)×52㎜(W)×45㎜(H)（拼接模式）

③模式三：94㎜(L)×52㎜(W)×45㎜(H)（重复阵列模式）

文件格式：STL

设备功率：3000W

系统外形尺寸：1000㎜(L)×700㎜(W)×1600㎜(H)

主机外形尺寸：600㎜(L)×580㎜(W)×750㎜(H)

重量：300kg

电气要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW

应用领域：

可广泛应用于医疗器械、内窥镜、连接器、消费电子、包装和通讯等行业