RAITH- EBPG5200 高性能电子束曝光机
- 公司名称 北京亚科晨旭科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号 RAITH- EBPG5200
- 产地 德国
- 厂商性质 生产厂家
- 更新时间 2022/12/12 15:46:30
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高性能电子束曝光机是一款高性能的纳米光刻系统,拥有完整200mm尺寸的光刻能力,这款电子束光刻系统代表了不断进化的高度成功和广为市场接受的EBPG系列产品。它提供了不同用途的解决方案,包括纳米尺度的电子束直写和大学研究所,以及商业化的生产力中心研发用的掩膜版制作。
同时,系列产品还包括新的EBPG5150电子束直写系统,使用了相同的平台设计,是一款155mm*155mm尺寸平台的系统。
Improved Specifications:
Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
Extreme beam current up to 350 nA
Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm
高束流密度,热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换
200mm的平台可以曝光完整8英寸的硅片或者7英寸的掩膜版
小曝光特征尺寸小于8nm
高速度曝光,可采用50或100MHz的图形发生器
在所有KVs加速电压下,可连续改变的写场大小,大可以到1mm
GUI人机交互界面友好,简洁易用,适用于多用户环境
多项灵活可选择的配置,可以适用于不同应用的需求
模块化的系统架构:
模块化的系统架构设计,可以让用户根据需要选择配置,可以在将来技术升级的时候,保护用户的初始投资,提供不同类型的升级策略。
电子束曝光系统EBPG5200 产品详情
高性能电子束曝光机主要应用:
100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构
高速电子束直写
批量生产, 如化合物半导体器件
防伪标识
电子光学柱技术:
EBPG
电子束
100 kV
样品台:
覆盖完整8英寸硅片大小
Z轴垂直高度大范围可调(可选)
10工位自动上料