50万RMB！高速大面积共聚焦拉曼成像系统
- 公司名称 上海昊量光电设备有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号
- 产地
- 厂商性质 代理商
- 更新时间 2023/10/18 15:15:00
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上海昊量光电设备有限公司
Aunion Tech Co., Ltd
专业源自专注 专注成就未来
自2008年成立以来，昊量光电专注于光电领域的技术服务与产品经销，致力于引进guo外*先进性与创新性的光电技术与可靠产品，为国内Z前沿的科研与工业领域提供优质的产品与服务，助力中国智造与中国创造! 目前，昊量光电已经与来自美国、欧洲、日本的多家光电产品制造商建立了紧密的合作关系。其代理品牌均处于相关领域的发展前沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究与国防等。
昊量光电坚持“专业源自专注，专注成就未来”的经营理念。近年来，我们专注于前沿的细分市场，为量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、先进激光制造等领域的客户提供系统解决方案。
作为一家以技术沟通与技术服务见长的高科技企业，我们所有的销售与技术服务团队成员都具有理工科方面的专业背景，并在公司接受相关领域的专业培训，在售前技术沟通、售后产品安装培训、产品问题解决、软硬件增值服务等方面为客户提供更加专业化的服务！我们专业高效的商务与物流部门凭借多年积累的贸易经验与规范化的制度流程，保障每一笔订货准时安全到达目的地，免除客户的后顾之忧！
秉承诚信、高效、创新、共赢的核心价值观，昊量光电坚持以诚信为基石，凭借高效的运营机制和勇于创新的探索精神为我们的客户与与合作伙伴不断创造价值，实现各方共赢！
立足于光电产业，昊量光电始终坚持价值创造与创新，赢得客户与合作伙伴的认可，不断拓展业务领域的新边疆，立志打造的代理服务品牌！
激光器调制器,激光测量加工设备,光学部件,光谱仪,光纤器件,晶体,精密定位系统扫描系统,探测器光子计数器,专用实验设备,相机
| 产地类别 | 进口 | 应用领域 | 医疗卫生,环保,生物产业,农业 |
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Nanobase50万RMB！高速大面积共聚焦拉曼成像系统采用透射式光路设计，提高了产品的灵敏度和稳定性。*的振镜扫描技术能够在台面固定不动的情况下实现快速二维成像扫描。该技术在联用光电流成像系统载台时优势明显，并且可扩展增加荧光寿命检测系统。
XperRam C series是基础款，采用一个532nm激光器激发，集成了奥林巴斯显微镜，可以测量样品的Raman/PL的光谱信号和mapping（Image）图像。光谱信号强，扫描速度快，。
50万RMB！高速大面积共聚焦拉曼成像系统
系统光路
拉曼成像mapping
(a) MoS2 sample microscope image (b)50x50µm size 0.3µm step Intensity image
(c) 30x30µm size 0.1µm step Intensity image (d)30x30µm size 0.1µm step Frequency image
产品特点
具有优异的扫描分辨率和重复性
（激光扫描分辨率< 0.02 um & 重复性< 0.1 μm）
体相全息光栅光谱仪（光透过率>90%,比反射式光栅高30%,信号传输效率更高）
具有Raman/PL等多种测量模式,可扩展为光电流成像功能
结构紧凑,模块化设计
扫描速度快,扫描范围大200µm x 200µm范围内高速成像 & 2D Mapping
应用领域
石墨烯，二维材料，生物样本，半导体工业，碳纳米管，碳材料，太阳能电池，储能材料，纳米纤维分布，探测器光电性能检测，晶圆体分析，制药分析，纳米材料检测，生物细胞成像，微塑料检测，金刚石微粉检测。
基本参数
激光器 |
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显微镜 |
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扫描模块 |
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探测器 |
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光谱范围 |
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光栅选择 |
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其它附加选项 |
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使用Nanobase XperRam Compact系列拉曼成像光谱仪发表的部分文献：
1. Ising-Type Magnetic Ordering in Atomically Thin FePS3gnetic Ordering in Atomically Thin FePS3
影响因子： 12.08 期刊名称： NANO Letters（2016） ， 作者单位： 首尔国立大学物理与天文学系， 通讯作者： Hyeonsik Cheong
2. Electrically conductive cement mortar: Incorporating rice husk-derived high-surface-area graphene
期刊名称： Construction and Building Materials（2016） ， 作者单位： 全南国立大学高分子科学与工程学院， 通讯作者： Ji Hoon Kim
3. Wafer-Scale van der Waals Heterostructures with Ultraclean Interfaces via the Aid of Viscoelastic Polymer
影响因子： 8.097 期刊名称： ACS Applied Materials and Interfaces（2018） ， 作者单位： 成均馆大学， 通讯作者： Young Hee Lee
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