Fiji G2 Plasma ALD 维易科 全自动原子层沉积系统(ALD)
- 公司名称 香港电子器材有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号 Fiji G2 Plasma ALD 维易科
- 产地 美国
- 厂商性质 代理商
- 更新时间 2020/9/21 11:46:34
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美国普林斯顿CCD、光谱仪,加拿大Sciencetech太阳能模拟器、BNC延迟脉冲器、Gentec光电探测器、海洋光学光谱产品、半导体前道产品、Crystalaser激光器、EOS红外探测器、半导体后道产品
产地类别 | 进口 | 价格区间 | 面议 |
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应用领域 | 医疗卫生,生物产业,能源,电子,航天 |
全自动原子层沉积系统(ALD)
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学,05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止,Veeco在ALD设备已有15年多的经验,已安装五百多台ALD设备。
方式: Plasma & Thermal ALD
优势: 标准自动加载锁定集成、加热、薄箔ALD trap
反应腔体大小: 可达200 mm
设备尺寸: 1845 x 715 x 1920 mm
操作模式: 连续模式(传统Thermal ALD) 曝光模式(超高深宽比) 等离子体模式(等离子体加强ALD)
功率: 220-240 VAC, 4200 W per reactor (不包含泵)
ZG温度: 标准200mm衬底加热至500°C / 可选100mm衬底加热至800°C
沉积均一性: 1σ均一性 / Thermal Al2O3 -1.5%, Plasma Al2O3 -1.5%循环时间: <2s per cycle with Al2O3 at 200°C
兼容: 标准四端口,可增加至六端口。每一个源瓶均可放固态/液态/气态前驱体,可独立加热至200°C
阀门: 工业标准ALD阀门(小响应10ms)
前驱体源瓶: 50cc(多填充25ml)不锈钢气瓶
原位分析选项: H2S兼容配件, 原位QCM, 原位椭便仪, RGA端口, 光发射光谱仪, 样品高度高达57mm的晶圆
臭氧发生器, LVPD, 集成手套箱, 衬底偏压