Hitachi日立高新荧光分布成像系统

Hitachi日立高新荧光分布成像系统
上市时间：2019年10月
创新点主要有两个方面：硬件方面：将荧光分光度计与CMOS相机结合在一起，能够同时观察样品光谱和图像的技术。软件方面：运用了智能光谱算法，可以获取样品任意区域的光谱信息。常规的荧光分光光度计测得的是样品表面信息平均化的信号，得到的是一条荧光光谱，这个新的系统能够对样品表面进行分区，从而获得不同区域的光谱信号，使得光谱信息细致化了。

Hitachi日立高新荧光分布成像系统产品简介

1.  荧光分布成像系统（EEM View）简介

作为荧光分光光度计的配件系统，这是将相机与荧光分光光度计的完美结合，融合了智能算法的*技术。能够同时获取样品图像和光谱信息。

新型荧光分布成像系统可安装到F-7100荧光分光光度计的样品仓内。入射 光经过积分球的漫反射后均匀照射到样品，利用F-7100标配的荧光检测器可以获得样品荧光光谱，结合积分球下方的CMOS相机可获得样品图像，并利用*的AI光谱图像处理算法，可以同时得到反射和荧光图像。

2.  荧光分布成像系统特点：
①测定样品的光谱数据（反射光、荧光特性）
②在不同光源条件下（白光和单色光）拍摄图像（区域：Φ20mm、空间分辨率：0.1 mm左右、波长范围：360-700nm）
③利用自主研发的分析系统1)，分开显示荧光图像和反射图像
④根据图像可获得不同区域的光谱信息（荧光光谱、反射光谱）

 国立信息学研究所 佐藤IMARI 教授?郑银强副教授共同研究成果
荧光分布成像系统软件分析（EEM View Analysis）界面(样品：LED电路板)

 

样品安装简单，适用于各种样品测试
样品只需摆放到积分球上，安装十分简单！
丰富的样品支架

支持准确测量的校正工具

 

总结
以上为荧光分布成像系统的特点和功能结束，这是一种全新的技术，将它配置到荧光分光光度计中，改变了常规荧光光度计只能获得样品表面区域平均化信息的现状，可以查看样品图像任意区域的光谱信息，十分适合涂料、材料、油墨、LED、化工等领域。
 

注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途