Plasma2000 钢研纳克全谱ICP光谱仪

钢研纳克全谱ICP光谱仪

仪器介绍

     Plasma2000型电感耦合等离子体发射光谱仪是钢研纳克“国家重大科学仪器设备开发专项”成果。采用中阶梯光栅光学结构和科研级CCD检测器实现全谱采集。仪器稳定性好、检测限低、快速分析、运行成本低。

     Plasma2000型电感耦合等离子体发射光谱仪可用于地质、冶金、稀土及磁材料、环境、医药卫生、生物、海洋、石油、化工新型材料、农业、食品商检、水质等各领域及学科的样品分析。可以快速、准确地检测从微量到常量约70种元素。

1、 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，径向观测，具有稳健的检测能力。

2、 高效稳定的自激式固态射频发生器，体积小巧，匹配速度快，确保仪器的高精度运行及优异的长期稳定性。

3、 高速面阵CCD采集技术，单次曝光获取全部谱线信息，真正实现“全谱直读”。

4、 功能强大的软件系统，简化分析方法的开发过程，为用户量身打造简洁、舒适的操作体验。

钢研纳克全谱ICP光谱仪

技术参数

1. 光学系统：中阶梯二维分光光学系统，焦距400mm

2. 谱线范围：165nm~900nm，光学分辨率：0.007nm（200nm处）

3. 光栅规格：中阶梯光栅，52.67刻线/毫米，尺寸：100mm x 50mm

4. 晶体管固态射频发生器，小巧高效

5. 27.12MHz频率提高信噪比，改善了检出限

6. 自动匹配调节

7. 全组装式炬管，降低了维护成本

8. 计算机控制可变速12滚轴四通道蠕动泵，具有快速清洗功能

9. 实验数据稳定性良好：重复性 RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；稳定性：RSD ≤2.0%（大于3小时）

仪器特点

稳健高效的全固态光源

     全固态射频发生器，体积小、效率高，全自动负载匹配，速度快、精度高，能适应各种复杂基体样品及挥发性有机溶剂的测试，具有优异的长期稳定性。

     垂直炬管的设计，具有更好的样品耐受性，减少了清洁需求，降低了备用炬管的消耗。

     简洁的炬管安装定位设计，快速定位，精确的位置重现。

     实时监控仪器运行参数，高性能CAN工业现场总线，保障通讯高效可靠。

精密的光学系统

     中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，使用超纯SiO2棱镜，高光路传输效率，保证了深紫外区的元素测量。

     优化的光学设计，采用非球面光学元件，改善成像质量，提高光谱采集效率。

     光室多点充气技术，缩短光室充气时间，提高紫外光谱灵敏度及稳定性，开机即可测量。

     光室气路独立，可充氮气或氩气。

     包围式立体控温系统，保障光学系统长期稳定无漂移。

进样系统

     仪器配备系列经过优化的进样系统，可用于有机溶剂、高盐/复杂基体样品、含氢氟酸等样品的测试。

     使用一体式炬管，易于维护，转换快速，使用成本低。

     使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量，流量连续可调，保障测试性能长期稳定。

     4通道12滚轮蠕动泵，泵速连续可调，确保样品导入稳定性。

检测器

     大面积背照式CCD检测器, 全谱段响应，高紫外量子化效率，抗饱和溢出

     具有极宽的动态范围和极快的信号处理速度

     一次曝光，完成全谱光谱信号的采集读取，获得更为快速、准确的分析结果

     同类产品中大靶面尺寸，*像素，单像素面积24μm X 24μm

     三级半导体制冷,制冷温度低于-35℃，具有更低的噪声和更好的稳定性