Autosorb-iQ-C 化学吸附分析仪

化学吸附分析仪实现了从原位真空脱气，到静态化学吸附，再到程序升温脱附的计算机全控制。用户仅需要按照实验需要，根据实验顺序进行样品处理，气体切换，流量控制，压力点测定，程序升温，高温炉强制风冷等全过程化学吸附实验的自动化进行。

化学吸附分析仪可同时进行两个样品的物理吸附测定，包括微孔分析。采用数字压力传感器，金属密封连接技术，使真空度大大提高，微孔样品测试时间节约了三分之一左右。新外观，可由计算机进行远程控制操作和数据传输。

化学吸附分析仪是全自动运行，能进行真空体积测定，气体物理和化学吸附测定的系统，它具有高气流通过率，费用低廉，能在测定一个样品的同时，独立地对另外两个样品进行脱气操作。该系统可以用于全面地测定具有微孔的物质（如沸石，活性炭等）的特性。该系统产生所需要的吸附和脱附数据，用于确定并给出所有的表面积和如下面条目中所列的有关参数。该系统能为化学吸附做就地的样品准备，并自动进行化学吸附测定，表达样品的催化特性。

化学吸附分析仪主要特点：

-流动态程序升温，进行TPD/TPR/DPO测量，脉冲滴定法分析催化剂特性（活化面积，金属分散作用等）

-化学吸附等温线的测量及分析单分子层覆盖量，活性（金属）表面分散度，平均微晶粒尺寸，吸附热等

-动态程序升温与化学吸附等温线的测量无缝对接，全面表征催化剂特性

-表面积和孔隙度等物理吸附全分析能力, 能对分子筛、活性碳、二氧化硅等完成超低压气体吸附分析以测定其微孔分布特性及介孔孔径分布

-流动或真空条件下现场样品制备

-高温预处理炉（1100 C）和全程序化气体转换及温度爬升，具有大的多功能性，满足各种实验需求

-可与质谱联用，质谱检测器可与TCD一起同时进行TPR/TPD测定，完成催化剂活性的定性和定量分析

-可内置蒸汽发生器

-采用隔膜泵及空气冷却免维护内置分子泵，真空度达10-10mmHg。质谱检测器共享仪器真空系统*地降低了用户使用成本

-从真空静态分析转换至程序升温流动法TCD分析仅不到1分钟

-无论真空体积测量，还是流动法TCD测量模式，均在Windows 平台上进行数据采集