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CKF-411 型涂胶机,显影台

具体成交价以合同协议为准
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吸片匀胶显影

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


SIYOUYEN”概念源自于21世纪初期美国,意为科技在社会技术方面应用的*体现。拥有“*生活,*科技”之桂冠美誉.商标持有人:鑫有研企业集团(香港)有限公司系一家专注于微电子工艺设备技术,真空技术,传动控制技术等科技类投资型企业公司。公司投资合作伙伴有意大利MICHELLE集团与香港CIG集团。

1、微电子工艺设备方面

SIYOUYEN公司在半导体、太阳能、FPD领域湿制程设备的设计、研发、生产及销售;同时代理半导体、太阳能、FPD领域及其它国外设备,负责在中国市场的开发、推广、服务!

2、真空技术设备方面

SIYOUYEN公司在真空行业领域,通过引近韩国、德国*的真空技术与合作,开发出了旋片真空泵,无油真空泵,防爆真空泵等。同时与韩国WONCHANG,韩国DOOVAC,韩国NARA,韩国G&M,韩国KMC,意大利DVP,等形成战略联盟,致力于真空技术的推广与销售。

3、传动控制技术方面

SIYOUYEN公司在传动技术方面与国家各个重点科研领域机构合作(质检,光学,教育,航天,海洋,石油,制药,检测等)共同致力于节能减排低碳环保,涉及节能环保技术、设备、产品和服务等方面

鑫有研公司在设计,制造,销售,服务过程中严格按照ISO9001:2000质量管理体系执行。并且本公司拥有一批技术*、服务优良的高素质人才,和完善的售后服务体系。产品以其*的品质进入国内市场,为国家重点工程配套、环保工业、科研、信息产业等做出了较大的贡献,获得了广大用户的好评和信赖。

我们将继续以严谨的态度始终坚持保证产品品质和信誉为本,用户*的经营原则,不断创造、创新服务于用户。

匀胶机,划片机,磨片机,真空镀膜机,电镀设备,环保产品,匀胶显影机,

显影机
显影机采用*的单片微型机程序自动控制,显影质量好工艺条件稳定可靠适应宜科研和生产单位大规模集成电路和其它半导体器件的光刻工艺中作显影之用。
本机显影工艺采用了*的喷雾方式,可根据工艺要求喷雾状态电机的转数,程序时间的工艺参数都可在很宽的数值范围内调整,其程序为延时吸片、显影、漂洗、干燥、延时复位。
采用喷雾显影工艺后电路图形清晰完整,特别是对较细线条电路采用此工艺可得到很高的效果。
本设备除能实现显影工艺外亦可进行人工涂胶,工艺指标与本系列产品CKF-411型涂胶机相同
主要技术指标

型号:121
显影工位: 一个工位
程序时间: 显影1—99秒 漂洗1—99秒 干燥1—99秒
旋转器转数: 500—8000转/分(连续可调)
硅片直径: Φ30—Φ75mm
净化效果: 100级(美国联邦标准)
操作区风速: 0.3—0.5米/秒
气流状态: 垂直层流
外形尺寸: 650Χ750Χ1620mm

 

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