NANO 系列 高光谱纳米显微成像系统

高光谱纳米显微成像系统NANO HNI是一种超高速且一体化的可定制高光谱纳米显微成像系统，具有高空间分辨率和光谱分辨率。*集成的系统可快速映射VIS-NIR-SWIR光谱范围内的漫反射，透射率，光致发光，电致发光和荧光。基于高通量全局成像滤波器，NANO HNI比基于扫描类型光谱仪的高光谱系统更快，更高效。

高光谱纳米显微成像系统NANO HNI的使用：

u 可在400至1700 nm范围内成像，带宽为3 nm，能够测量光电特性，如电压开路和外量子效率，并可对材料中的缺陷进行准确的检测和表征可进行复杂的材料分析，如太阳能电池特性以及半导体质量控制，如钙钛矿, 砷化镓, SiC碳化硅, CIS, CIGS 等；

u检索暗场图像，并获得透明和未着色样品（比如聚合物，晶体或活细胞）的对比度；

u研究包括活细胞和组织在内的复杂的环境的红外标记。以第二生物窗口中发射的红外荧光团的光谱异质性为例

产品优势

Ø快速全局映射（非扫描）

Ø高空间和光谱分辨率完整系统（光源、显微镜、照相机、过滤器、软件）

Ø无损分析

Ø可根据客户具体要求定制

Ø在可见光范围内灵敏度为400至1200纳米，在SWIR范围内灵敏度为900至1700纳米。