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PECVD

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 合肥康帕因设备技术有限公司是应材料界老客户呼吁而成立的专业致力于材料制备、真空镀膜、真空检测、等离子清洗、镀膜等设备的研发、生产型企业。公司拥有过硬的技术团队,可在材料研究、真空检漏、真空镀膜、等离子清洗等领域为您排忧解难。
CPI 技术力量来源于材料类工业生产设备要求,以及与国外同行业间的技术合作,产品设计*,注重细节,质量可靠,售后无忧。CPI设备广泛应用于新能源材料,金属材料,磁性材料,半导体材料,陶瓷材料,电化学,薄膜材料,CVD,PECVD ,石墨烯,碳纳米管,碳纳米线,光学材料,齿科等研究领域。
CPI将工业生产设备技术要求应用于实验设备,设备性能更加稳定可靠,工艺重复性强。
CPI的理念是以客户为根本(customer),以人才为基础(personnel),以创新求发展(innovation)。我们将秉承这一理念,为每一个客户提供全套方案!
CPI企业文化:厚德载物,自强不息。以人为本,敬职敬业。
CPI经营理念:诚信务实,创新致远。品质*,服务至上。




热处理设备,高温炉、CVD/PECVD、真空系统、晶体、耗材等

  PECVD化学气相沉积设备质量流量控制系统一款多路质量流量计控制系统,其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里,移动柜Z大可以承重1000Lbs,所以在与本公司大多数管式炉配套使用时,可将设备置于移动柜上以节约空间。
 
  工作温度:5~45?C
 
  zui大压力:3x106 Pa
 
  精度: ±1.5% FS
 
  线性:±(0.5-1.5)%F.S
 
  重复精度: ±0.2%F.S.
 
  流量范围:
 
  一路:1~199 SCCM
 
  二路:1~499 SCCM
 
  PECVD注意:其他流量范围的可定制,需额外费用
 
  化学气相沉积设备CVD1200C-II-SL200D50-5Z双温区滑轨式CVD系统由双温区滑轨炉、质子流量控制系统、真空系统三部分组成。双温区滑轨炉可移动并可实现快速升降温;PLC控制5路质子流量器,能够精确控制系统的供气;真空泵可实现对管式炉快速抽真空。CVD(化学气象沉积系统)常用于表面材料生长、沉积,是一款实验室常用设备技术参数


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