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CLA 超高灵敏度材料氧化分析仪

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  • 我们是谁

    美国Quantum Design公司是科学仪器制造商,其研发生产的系列磁学测量系统及综合物性测量系统已成为业内进的测量平台,广泛分布于全球材料、物理、化学、纳米等研究域的科研实验室。Quantum量子科学仪器贸易(北京)有限公司(暨Quantum Design中国子公司) 成立于2004年,是美国Quantum Design公司设立的诸多子公司之,在全权负责美国Quantum Design公司本部产品在中国的销售及售后技术支持的同时,还致力于和范围内物理、化学、生物域的科学仪器制造商进行密切合作,帮助中国市场引进更多全球范围内的质设备和技术,助力中国科学家的项目研究和发展。

  • 我们的理念

    Quantum Design中国的长期目标是成为中国与进行进技术、进仪器交流的重要桥头堡。助力中国科技发展的十几年中,Quantum Design中国时刻保持着积进取、不忘初心、精益求精的态度,为中国科学家提供更质的科学和技术支持。随着中国科学在舞台变得愈加举足轻重,Quantum Design中国将继续秉承“For Scientist, By Scientist”的理念,助力中国科技蓬勃发展,助力中国科技在腾飞!

  • 我们的团队

    Quantum Design中国拥有支具备强大技术背景、职业化工作作风的团队,并致力于培养并引进更多博士业技术人才。目前公司业务团队高学历业硕博人才已占比超过70%以上,高水平人才的不断加入和日益密切的团队配合帮助QD中国实现连续几年销售业绩的持续增长

  • 我们的服务


  • Quantum Design中国拥有完善的本地化售前、售中和售后服务体系。国内本地设有价值超过50万美元的备件库,用于加速售后服务响应速度;同时设有超过300万美元的样机实验室,支持客户对设备进行进步体验和深度了解。 “不仅提供超的产品,还提供超的售后服务”这将是Quantum Design中国区别于其他科研仪器供应商的重要征,也正成为越来越多科学工作者选择Quantum Design中国的重要原因。



PPMS,MPMS,低温磁学,表面成像,样品制备,生命科学仪器

应用领域 食品,化工,石油,制药

超高灵敏度材料氧化分析仪

                   ——化学发光分析系统

 

    日本Tohuko Electronic Industrial生产的超高灵敏度材料氧化分析仪(CLA) 是种用化学发光原理,探测光子化学发光的高性能仪器。超高的灵敏度使其能够用于分析探测氧化反应、热降解与光辐射所产生的其微弱的化学发光。而这些微弱的化学发光通过常规测试手段如紫外可见光谱、荧光光谱等是无法检测的。

    该仪器具有超高灵敏度、在线原位分析、在线监测整个氧化过程、分析速度快的点,是研究材料氧化与降解行为,评价抗氧化助剂性能, 痕量样品检测的种强有力工具。同时超高灵敏度材料氧化分析仪具有其强大的功能,不仅可以用于研究聚合物,涂料,橡胶,树脂,粘合剂等材料,也可以用于检测食品,生化用品。
 

超高灵敏度材料氧化分析仪-技术势

 

. 高灵敏度,快速测样

在氧化开始之初检测到微弱氧化

 

二、原位在线监测

在线监测整个氧化过程的发生

三、操作与维护简单

模块化设计,简设计

四、功能强大

不同温度选择,不同实验需求样品腔供选择

 

超高灵敏度材料氧化分析仪-应用案例

 

1.超高分子量聚乙烯(UHMWPE)氧化机理研究

 

左图, UHMWPE 的化学发光曲线;FTIR测得的过氧化物与羰基化合物浓度曲线;右图,化学发光曲线,a. 未处理的UHMWPE ;b. 加入DBA的UHMWPE ; c. 加入DPA的UHMWPE。

从图中可以得出结论, UHMWPE的*个CL峰为过氧化物分解产生,第二个峰为羰基化合物积聚产生

 

2.橡胶型磁流变弹性体掺入氧化铁后抗氧化能力研究

 

左图,在120℃测试温度下,不同氧化铁含量磁流变弹性体的化学发光曲线;右图,氧化铁含量与化学发光曲线大值关系图

从图中可以得出结论,掺入氧化铁颗粒后,将大大促进磁流变弹性体的抗氧化能力,且在掺入10%之后抗氧化能力基本不变

 

3. 环氧树脂的氧化机理研究

 

左图,在N2气氛,程序升温下,a. 环氧树脂样品的*CL曲线;b. 将样品在N2保护下,室温过夜,二次测量曲线; c. 温度变化曲线;右图,其他实验条件不变,b. 样品在空气中室温过夜,二次测量曲线。

从图中可以得出结论,*个CL峰是树脂氧化产生的过氧化物分解产生的化学发光;第二个CL峰为树脂高温分解产生的化学发光

 

发表文章

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(6) Lokander, M. Polym Degrad Stabil 2004, 86, 467
(7) Forsström, D. Polym Degrad Stabil 2003, 81, 81
(8) Eriksson, P. Polym Degrad Stabil 2002, 78, 183.
(9) Jacobson, K. Polym Degrad Stabil 2000, 68, 53.
(10) Forsström, D. Polym Degrad Stabil 2000, 67, 69.
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国内用户:

清华大学

北京易化工有限公司

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