ASI Helix超临界微粒制备仪

随着纳米技术的发展，超临界流体技术因其*的优势在超细颗粒制备的应用也越来越广泛，如催化剂，磁性材料，精细陶瓷，缓释药物等。ASI Helix超临界微粒制备仪专注于超细颗粒制备，其微粒粒径小且分布窄，微粒的大小和外观可通过操作参数进行调节，结晶微粒无有机溶剂残留的优点。

ASI Helix超临界微粒制备仪主要技术参数：  

*同一系统可实现超临界流体超细微粒制备的三种方式： 超临界溶剂快速膨胀方法（RESS），圧缩流体抗溶剂沉淀方法（PCA），超临界抗溶剂方法（GAS）

*高操作温度可达 250℃  

*高操作压力可达 10,000 psi  (680bar)

*高流量 50L/min （气体），400ml/min（液态）

*可选配分离模块

*模块化的设计，可方便的进行系统调整

*萃取釜承压为 30,000  psi，萃取体积：5ml至4000ml可选，可根据用户需求进行定制。

*可添加夹带剂 (夹带剂泵的压力为10,000  psi）

*触摸屏电脑控制，人性化的操作界面

*微粒的粒径小且分布窄（可达纳米级）

*微粒的大小和外观可通过控制操作参数进行调整

*结晶微粒无溶剂残留  

*干燥气凝胶

*可选配搅拌功能

*可选配液体逆流萃取  

*可选配PSE（压力溶剂萃取）包  

*三重过压安全保护装置及经济压力释放装置