光刻机,镀膜机,磁控溅射镀膜仪,电子束蒸发镀膜仪,开尔文探针系统(功函数测量),气溶胶设备,气溶胶粒径谱仪,等离子增强气相沉积系统(PECVD),原子层沉积系统(ALD),快速退火炉,气溶胶发生器,稀释器,滤料测试系统
产地类别 | 国产 |
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气氛可控开尔文探针
开尔文探针是一种非接触、非破坏性振动电容装置用于导电材料的功函或半导体或绝缘体材料表面的表面电势,表面功函由材料表面最顶部的1-3层原子或分子决定,因而开尔文探针是一种非常灵敏的表面分析技术,KP Technology公司目前可提供具有1-3 meV业界最高分辨率的测试系统。
RHC020 气氛控制扫描开尔文探针是控制气氛检测样品的理想解决方案,50x50mm样品加热器可将样品温度升至100℃,采用先进的电子和硬件系统即时监测控制温度和湿度变化,附加表面光伏SPV020及表面光电压谱SPS030模块,可对光敏感样品进行强度或波长可变的激发。
气氛可控开尔文探针
技术参数:
● 2mm和50μm探针
● 功函分辨率1-3meV(2mm探针),5-10meV(50μm探针,光学防震台)
● 50mmX50mm最大扫描面积
● 318纳米定位分辨率
● 跟踪系统自动控制样品和探针距离● 附加手动高度控制(25.4mm KP 平移)
● 过零信号检测系统抑制寄生电容
● 50mmX50mm样品加热器
● 自动相对湿度控制至1%(10-100%RH)
选件
● 直插型探针支架:2mm-50μm
● 自动温度控制
● 表面光伏模块SPV020和SPS030