光刻机,镀膜机,磁控溅射镀膜仪,电子束蒸发镀膜仪,开尔文探针系统(功函数测量),气溶胶设备,气溶胶粒径谱仪,等离子增强气相沉积系统(PECVD),原子层沉积系统(ALD),快速退火炉,气溶胶发生器,稀释器,滤料测试系统
产地类别 | 国产 |
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微型磁控溅射微型磁控溅射
这款来自美国的微型磁控溅射系统满足研究所和研发部门对真空薄膜沉积的性能要求,占用空间小,具有超高的性价比,可以向客户提供优质的服务。
微型磁控溅射特点
小容量,快速重复工作流程;
活性沉积区域最大为200nm(8英寸)直径;
适应多种衬底;
可配备多个溅射源(最多至4个);
连续沉积模式或联合沉积模式;
不同工作气体控制;
共焦阴极分布;
50mm,75mm, 或100mm磁控溅射源;
内置阴极角倾斜;
阴极挡板;
直流,脉冲,高频(HG或MF)电源;
衬底,加热,冷却,或者RF/DC偏压;
可添加预抽室。
这款来自美国的微型磁控溅射系统满足研究所和研发部门对真空薄膜沉积的性能要求,占用空间小,具有超高的性价比,可以向客户提供优质的服务。