光刻机,镀膜机,磁控溅射镀膜仪,电子束蒸发镀膜仪,开尔文探针系统(功函数测量),气溶胶设备,气溶胶粒径谱仪,等离子增强气相沉积系统(PECVD),原子层沉积系统(ALD),快速退火炉,气溶胶发生器,稀释器,滤料测试系统
真空快速退火炉
真空快速退火炉(RTP)一般都是以红外卤素灯为发热元件,升温速度极快,采用热电偶测温并采用国际*的PID控制,具有很高的控温精度,快速退火炉具有真空装置,可在多种气氛下工作。大大提高了其使用范围。
仪器规格:
加热方式:红外卤素钨灯;
最大样品尺寸: 2--6寸,单片;
最高温度: 1200度;
工作气体:最多3路气体(MFC控制),可通入氧气,氮气及惰性气体;
极限真空:5e-3torr;
真空泵:机械泵(可选配分子泵,干泵);
工艺控制:手动工艺控制;
循环水冷却,提高降温速度;
结构紧凑,经济实惠。
应用:
快速热升温工艺(热退火);
薄栅氧化(纳米器件);
低熔点压焊(反应金属压焊);
硅化物构造;
硅化物界点构造等。