Trion Orion HDCV Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统
- 公司名称 韦氏纳米系统(深圳)有限公司
- 品牌
- 型号 Trion Orion HDCV
- 产地
- 厂商性质 代理商
- 更新时间 2018/8/21 10:18:43
- 访问次数 547
联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!
Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统
型号:Trion Orion HDCVD
品牌:Trion
产地:美国
Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术,在惰性气体进入口安装感应线圈,周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与挥发性物质结合时,会发生化学反应,然后在衬底表面沉积一层薄膜.
该技术不需要将衬底加热到典型的PECVD温度,并且该方法非常适合沉积在有机物、柔性衬底和其它具有温度限制的表面上。
射频可通过Chuck改变薄膜性能。
该系统可以升级传送Loadlock,或添加到集群平台Cluster。
Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术,在惰性气体进入口安装感应线圈,周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与挥发性物质结合时,会发生化学反应,然后在衬底表面沉积一层薄膜.
该技术不需要将衬底加热到典型的PECVD温度,并且该方法非常适合沉积在有机物、柔性衬底和其它具有温度限制的表面上。
射频可通过Chuck改变薄膜性能。
该系统可以升级传送Loadlock,或添加到集群平台Cluster。