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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>薄膜生长设备>化学气相沉积设备>Trion Orion HDCV Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统

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Trion Orion HDCV Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统

具体成交价以合同协议为准

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


First-Nano System GmbH 

  • 2003年          创立于德国德累斯顿工业大学(Dresden University of Technology)

  • 2008年          香港成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司   

  • 2015年          上海成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司中国代表处,负责中国区业务

  • 2018年          深圳正式成立韦氏纳米系统(深圳)有限公司,更好的为中国南方区市场

     

德国韦氏纳米系统成立以来,一直为客户想的更多,Thinking more !!!

 

产品范围:

薄膜沉积/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蚀/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面处理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

等离子清洗机,均胶机,薄膜沉积,刻蚀

Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统

​型号:Trion Orion HDCVD

品牌:Trion

​产地:美国

Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术,在惰性气体进入口安装感应线圈,周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与挥发性物质结合时,会发生化学反应,然后在衬底表面沉积一层薄膜.

该技术不需要将衬底加热到典型的PECVD温度,并且该方法非常适合沉积在有机物、柔性衬底和其它具有温度限制的表面上。            

射频可通过Chuck改变薄膜性能。            

该系统可以升级传送Loadlock,或添加到集群平台Cluster。

 

 

 

 

 

Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术,在惰性气体进入口安装感应线圈,周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与挥发性物质结合时,会发生化学反应,然后在衬底表面沉积一层薄膜.

该技术不需要将衬底加热到典型的PECVD温度,并且该方法非常适合沉积在有机物、柔性衬底和其它具有温度限制的表面上。            

射频可通过Chuck改变薄膜性能。            

该系统可以升级传送Loadlock,或添加到集群平台Cluster。

 

 

 



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