PDC-HP Plasma Cl 高功率扩展型等离子清洗机

First-Nano System GmbH 

• 2003年          创立于德国德累斯顿工业大学（Dresden University of Technology）

• 2008年          香港成立德国韦氏纳米系统（香港）有限公司   

• 2015年          上海成立德国韦氏纳米系统（香港）有限公司中国代表处，负责中国区业务

• 2018年          深圳正式成立韦氏纳米系统（深圳）有限公司，更好的为中国南方区市场

   

德国韦氏纳米系统成立以来，一直为客户想的更多，Thinking more ！！！

产品范围：

薄膜沉积/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蚀/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面处理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems