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PVD-090-HMDS HMDS真空烘箱

参考价 ¥ 120000
订货量 ≥1
具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称 上海实贝仪器设备厂
  • 品牌 TATUNG
  • 型号 PVD-090-HMDS
  • 产地 上海市
  • 厂商性质 生产厂家
  • 更新时间 2022/8/15 11:49:11
  • 访问次数 2204

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


上海实贝仪器设备厂成立于2010年,是生产销售实验室设备、仪器仪表、医用及分析设备的厂家,企业凭借有经验的研发设计团队及高效的制造能力,使产品技术不断创新,改进提升产品质量。现以生产销售恒温设备为核心的上海实贝仪器设备厂用全新的面貌服务客户,“服务于客户,立足于客户”是我们的经营理念,也是我们一直秉承的销售思路,因为我们相信客户才是企业的原动力,也是企业发展的基本。我们提供优质的产品、完善的售后服务,并信守诚信经营的原则,服务好每一位客户,让客户满意就是我们的责任与义务。
产品广泛应用于航空、航天、通讯、机械电子、半导体、电器、汽车、化工、生物医药、医疗、食品、农业科学、纺织、专科院校及科研等各领域。
主营产品: 干燥箱,高温烘箱,低温恒温培养箱,真空干燥箱,高低温试验箱,恒温恒湿箱,生化培养箱,干烤灭菌器,恒温水浴箱,老化箱,洁净烘箱,高温无氧烤箱,真空搅拌脱泡机, HMDS真空烘箱,各类工业流水线烘道产品及恒温设备。

 

 

干燥箱,真空干燥箱,高温烘箱,恒温培养箱,低温培养箱,恒温恒湿箱,生化培养箱,霉菌培养箱,光照培养箱,高低温试验箱,洁净烘箱,高温无氧烘箱,热风循环烘箱,老化箱,马弗炉

产地类别 国产

HMDS真空烘箱

一、预处理系统的必要性:

在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,而涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺显得更为必要,尤其在所刻线条比较细的时候,任何一个环节出现一点纰漏,都可能导致光刻的失败。在涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而晶片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,如果在晶片表面直接涂胶的话,会造成光刻胶和晶片的黏合性较差,甚至造成局部的间隙或气泡,涂胶厚度和均匀性都受到影响,进而会影响了光刻效果和显影,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和晶片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀,所以涂胶工艺中引入一种化学制剂HMDS,英文全名Hexamethyldisilazane)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到晶片表面后,经烘箱加温可反应生成为主体的化合物,是一种表面活性剂,它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

二、产品结构与性能

2.1产品结构:

1.设备外壳采用SUS304不锈钢材质,内胆316L不锈钢材料制成;不锈钢加热管,均匀分布在内胆外壁,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置;钢化、双层玻璃观察窗,便于观察工作室内物品实验情况。

2.箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内保持高真空度。

3.温度微电脑PID控制,系统具有自动控温、定时、超温报警等,LCD液晶显示,触摸式按键,控温精确可靠。

4.智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间。

5.HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,使真空箱密封性能较好,确保HMDS气体无外漏顾虑。

6.无发尘材料,适用百级光刻间净化环境使用。

2.2产品性能:

1.由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理,所以不会有尘埃的干扰,系统是将去水烘烤和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤,再接着进行HMDS处理,不需要从容器里传出而接触到大气,晶片吸收水分子的机会大大降低,所以有着更好的处理效果。

2.由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。

3.液态涂布是单片操作,而本系统一次可以处理多达4盒的晶片,效率高。

4.用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多,经实践证明,更加节省药液。

5. HMDS是有毒化学药品,人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、呼吸道等,由于整个过程是在密闭的环境下完成的,所以不会有人接触到药液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机,所以也不会对环境造成污染,更加环保和安全。

 

三、技术参数:

型号:PVD-090-HMDS

容积:90L

控温范围:RT+10~250℃

温度分辨率:0.1℃

控温精度:±0.5℃

隔板数量:2pcs

真空度:<133Pa(真空度范围100~100000pa)

真空泵:DM4(外置连接)

电源:AC220/50HZ

额定功率:3.0KW

内胆尺寸mm:450x450x450 (W*D*H)

外形尺寸mm:650x640x910 (W*D*H)

木箱包装mm: 840x750x1100(W*D*H)

连接管:316不锈钢波纹管,将真空泵与真空箱*密封无缝连接

四、HMDS真空烘箱的原理:

HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。

五、一般工作流程:

首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真空度达到某一高真空度后,开始充入氮气,充到某低真空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表面生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻阻止其进一步反应。

开箱温度可以由user自行设定来降低process时间,正常工艺在50分钟-90分钟(按产品所需而定烘烤时间),为正常工作周期不含降温时间(因降温时间为常规降温))。

六、尾气排放:

多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到废气收集管道。在无废气收集管道时需做专门处理。

七、产品操作控制系统配置:

1. 标配DM4直联旋片式真空泵(外置)

需要使用干泵可选爱德华或安捷伦(客户自行购买)

2. LCD液晶显示温度控制器,PLC触摸屏操作模块

3. 固态继电器

4. 加急停装置



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