Xradia 520 Versa 蔡司 Xradia 520 Versa 3D X 射线显微镜

的 Xradia 520 Versa 架构提供了出众的灵活性：

无损三维 X 射线成像中出色的分辨率：

• 低于 700 nm 的真实空间分辨率
• 低于 70nm 的zui小体素
• 双级放大倍率提供的“大工作距离下的高分辨率（RaaD）”技术，保证了在亚微米的分辨率下更大更灵活的工作距离
• 利用搜索和放大功能进行*的无损内部断层扫描

  用于挑战性样品成像的高级反差功能：

• 优化的增强型吸收衬度探测器能够更大程度地收集形成衬度的低能量 X 射线光子
• 可调传播相位衬度技术能对低原子序数材料和具有低吸收衬度的生物样品进行成像
• 使用双能量探测功能尽可能地zui大化单个扫描难以区分的差别

• 的原位和四维解决方案

• 无损 X 射线显微镜可对原位实验的微观结构和随时间演化（4D）的特征进行*的表征
• 支持多种在环境试验箱内不同变化条件下高达几英寸的样品的亚微米成像的原位实验
• 大工作距离下的高分辨率（RaaD）使 Xradia Versa 能够在X射线源与样品空间增长下保持高分辨率，然而传统的 micro-CT 在样品放置在宽敞的原位腔中分辨率会下降