CMSD2000 盐酸头孢噻呋混悬液胶体磨,盐酸头孢噻呋注射液均质机，头孢噻呋注射液研磨分散机

盐酸头孢噻呋混悬液胶体磨,盐酸头孢噻呋注射液均质机，头孢噻呋注射液研磨分散机， 将盐酸头孢噻呋原料药加入复合溶媒中搅拌，充分混匀得混悬液；将助悬剂加入注射剂溶媒中并在８０℃～９０℃下溶解得溶解液；将溶解液冷却至室温后加入到混悬液中，搅拌均匀得混合液；再加入抑菌剂于混合液中，加入剩余的注射级溶媒定至全量，搅拌混匀；然后过高速剪切分散机，再过胶体磨，灭菌，制得*盐酸头孢噻呋注射液。详情请接洽上海依肯,段，手机，(同手机号) 

盐酸头孢噻呋混悬液胶体磨,盐酸头孢噻呋注射液均质机，头孢噻呋注射液研磨分散机 混悬剂的质量要求是：药物本身化学性质应稳定，有效期内药物含量符合要求；混悬微粒细微均匀，微粒大小应符合该剂型的要求；微粒沉降缓慢，口服混悬剂沉降体积比应不低于0.90，沉降后不结块，轻摇后应能迅速分散；混悬剂的粘度应适宜，倾倒时不沾瓶壁；外用混悬剂应易于涂布，不易流散；不得有发霉、酸败、变色、异臭、异物、产生气体或其他变质现象；标签上应注明“用前摇匀”。

的研磨效果 

影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

2 胶体磨磨头头的剪切速率  （越大，效果越好）

3 胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4  物料在研磨腔体的停留时间，研磨粉碎时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。 

• 剪切速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)   
                g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素： 

• 转子的线速率
• 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
  IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

头孢噻呋注射液胶体磨,头孢噻呋注射液研磨分散机  

是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。 

型号 

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。

详情请接洽上海依肯,段，手机，(同)