CMD2000 二维材料研磨分散机，二维材料剥离设备，三维材料研磨分散机，三维材料剥离设备
| 参考价 | ¥ 14 |
| 订货量 | ≥1 |
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 上海依肯机械设备有限公司
- 品牌
- 型号 CMD2000
- 产地 德国
- 厂商性质 生产厂家
- 更新时间 2017/3/2 16:52:07
- 访问次数 454
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- 二维材料研磨分散机，二维材料剥离设备，三维材料研磨分散机，三维材料剥离设备 二维材料研磨分散机，二维材料剥离设备，超高速研磨分散机，线速度66M/S分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果
详情请接洽上海依肯,段，手机，(同) ，公司有样机供客户实验
二维材料 二维材料是指电子仅可在两个维度的非纳米尺度（1-100nm）上自由运动（平面运动）的材料，如纳米薄膜、超晶格、量子阱。二维材料是指电子仅可在两个维度的非纳米尺度（1-100nm）上自由运动（平面运动）的材料，如纳米薄膜、超晶格、量子阱。
纳米材料是指材料在某一维、二维或三维方向上的尺度达到纳米尺度。纳米材料可以分为零维材料、一维材料、二维材料、三维材料。
零维材料是指电子无法自由运动的材料，如量子点、纳米颗粒与粉末。
一维材料是指电子仅在一个非纳米尺度方向上自由运动（直线运动），如纳米线性结材料、量子线，代表的是碳纳米管（carbon nanotube）。
三维材料是指电子可以在三个非纳米尺度上自由运动，如纳米粉末高压成型或控制金属液体结晶而得到的纳米晶粒结构（纳米结构材料）。
石墨烯材料 氮化硼（BN）、二硫化钼（MoS2）。zui近在凝聚态物理领域有着广泛的研究。
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粉碎研磨分散的本质是通过能量的输入使不相溶的两相或多相达到互相包裹，近似稳定均一状态的做功过程。即形成乳液或悬浮液的条件是，在某一能量水平上， 各种微滴颗粒集聚的速度与分散的速度达到动态的平衡。
IKN胶体磨由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果
为了达到巨大的能量输入，IKN采用提高定转子转速的方法。在电机固定三千转的前提下，我们采用立式的结构通过皮带加速达到15000转。这很容易做到，但重要的是其它的部件能否能在高转速下保持稳定——轴承的强度够不够?机械密封会不会因为产生大量的热而损毁泄露？主轴会不会偏振的很厉害，定转子是否会发生摩擦?这些是IKN的关注点，也应该是广大客户在选型时应该重视的几个方面。
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IKN研磨机与国内研磨机比较：
转速和剪切力：
国内研磨机，3000/4700 RPM直联电机的转速决定转子转速
线速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN研磨机，9000/14000RPM通过皮带加速
线速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
这是研磨粉碎的重要因素，相当于后者是前者的4-5倍
设备设计构造：
国内研磨机，卧室直联结构，运行时间长，容易造成轴的偏心，运转不正常，需要专业的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴
IKN研磨机，立式分体结构，运行时间长，不易造成轴的偏心，容易更换，而且只要更换相应的皮带，一般的人员可以操作。
密封：
国内研磨机，填料密封或骨架密封，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁
IKN研磨机，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转，特殊德国PDFE轴封，可以运行10000小时，可选择德国高品质机械密封，在一般的情况下，我们的机械密封可以zui大承受16bar 压力，根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口zui大压力可以达到12-13 bar .
产品效果：
国内研磨机，粒径细度有限，10微米以下较困难，重复性差，产品粒径分布不均匀
IKN高剪切研磨机 可实现0.1-1微米的颗粒加工，粒径分布均匀，纳米级分散乳化粉碎
IKN管线式粉碎机与国内粉碎机比较：
转速和剪切力：
国内粉碎机，3000/4700 RPM直联电机的转速决定转子转速
线速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高剪切粉碎机，9000/14000RPM通过皮带加速
线速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
这是研磨粉碎的重要因素，相当于后者是前者的4-5倍
设备设计构造：
国内粉碎机，卧室直联结构，运行时间长，容易造成轴的偏心，运转不正常，需要专业的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴
IKN粉碎机，立式分体结构，运行时间长，不易造成轴的偏心，容易更换，而且只要更换相应的皮带，一般的人员可以操作。
密封：
国内粉碎机，填料密封或骨架密封，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁
IKN粉碎机，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转，特殊德国PDFE轴封，可以运行10000小时，可选择德国高品质机械密封，在一般的情况下，我们的机械密封可以zui大承受16bar 压力，根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口zui大压力可以达到12-13 bar .
产品效果：
国内粉碎机，粒径细度有限，10微米以下较困难，重复性差，产品粒径分布不均匀
IKN高剪切粉碎机，可实现0.1-1微米的颗粒加工，粒径分布均匀，纳米级分散乳化粉碎
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IKN纳米胶体磨与国内胶体磨的性能比较：
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定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
IKN管线式高剪切胶体磨与卧式胶体磨比较：
转速和剪切力：
国内胶体磨，3000/4700 RPM直联电机的转速决定转子转速
线速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高剪切胶体磨，9000/14000RPM通过皮带加速
线速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
这是研磨粉碎的重要因素，相当于后者是前者的4-5倍
设备设计构造：
国内胶体磨，卧室直联结构，运行时间长，容易造成轴的偏心，运转不正常，需要专业的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴
IKN高剪切胶体磨，立式分体结构，运行时间长，不易造成轴的偏心，容易更换，而且只要更换相应的皮带，一般的人员可以操作。
密封：
国内胶体磨，填料密封或骨架密封，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁
IKN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转，特殊德国PDFE轴封，可以运行10000小时，可选择德国高品质机械密封，在一般的情况下，我们的机械密封可以zui大承受16bar 压力，根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口zui大压力可以达到12-13 bar .
产品效果：
国内胶体磨，粒径细度有限，10微米以下较困难，重复性差，产品粒径分布不均匀
IKN高剪切胶体磨，可实现0.1-1微米的颗粒加工，粒径分布均匀，纳米级分散乳化粉碎
二维材料研磨分散机，二维材料剥离设备，超高速研磨分散机，线速度66M/S分散机- 转速和剪切速率：IKN纳米胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440S-1通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍
- 胶体磨头和间距：IKN纳米胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差
- 机械密封：IKN纳米胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁 二维材料研磨分散机，二维材料剥离设备，超高速研磨分散机
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