SWIFT XS SWIFT XS拉曼光谱仪
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 HORIBA科学仪器事业部
- 品牌 HORIBA/堀场
- 型号 SWIFT XS
- 产地 法国
- 厂商性质 生产厂家
- 更新时间 2024/1/23 18:50:50
- 访问次数 3798
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实现毫秒级别超快速、高分辨拉曼成像
全新 SWIFT XS 拉曼光谱仪
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无惧以往拉曼成像过程中的共焦和灵敏度等挑战，全新SWIFT XS超快速成像拉曼光谱仪，实现毫秒级别超快速、高分辨拉曼成像，帮助用户专注获取成像的细节和化学信息。
01配备优化EMCCD，*呈现超快速成像技术优势
超快速
高达1400条光谱/s，可几秒内获取拉曼成像图，节省测样时间，快速分析大量样品。
高精度
单个成像图可达百万像素，不仅保证大面积成像，同时可获取超精细成像图。
高精度图像 (>260万张光谱)：
1.9cm×0.9cm药片成像图，局部放大后显示更细节的药物各成分分布图
高灵敏
即使对于弱信号、有荧光干扰的生物样品，同样能进行超快速成像。
细胞微管成像，扫描范围92 μm x 71 μm，
共40533条光谱，步长400nm，总成像时间：5 min 15s。
绿色和黄色分别对应蛋白质和DNA的分布。
高空间分辨率
HORIBA 拉曼系统的真共焦性能，确保利用佳空间分辨率分析小颗粒或者薄层样品，支持3D成像。
1μm聚集小球超快速拉曼成像结果。
左：共聚焦成像结果，获得非常清晰的小球轮廓；
右：非共焦成像结果，无法将单个小球分开
多种成像功能
支持偏振成像、超低波数成像、PL成像等多种成像功能，全面分析样品
3英寸MQW半导体晶片的超快速PL图像
显示发射波长(左图)和峰宽(右图)的分布情况,反映整个晶片的材料质量
共23,409条光谱，总采集时间7m:10s
2多种工作模式，满足样品多样化检测需求
标准模式
采用CCD慢扫操作，适用于信号弱样品或者单点曝光时间长于1s的样品测试
SWIFTXS-Ultra 模式
超快速成像，高达1400条光谱/s，适用于强信号样品
SWIFTXS-HC 模式
结合超快速成像和信号增强功能，增加弱信号样品的信噪比和图像对比度
示例1 标准模式和SWIFTXS-Ultra模式对比
背景：对同一样品区域(1-6层石墨烯)做成像分布图，数据点皆为28080条光谱
结果：
·使用标准模式精细扫描，需要1个多小时
·使用 SWIFTXS-Ultra 模式，在1-2分钟内完成成像的同时，依然获得很好的层数分布信息
示例2 标准模式和SWIFTXS-HC模式对比
背景：对聚合物小球做成像分布图，单点曝光时间为10ms/点
结果：SWIFTXS-HC模式可以更地区分样品和背景噪音，从而获取更清晰分布图
应用实例
BaSO4颗粒在HDPE聚合物基质中的3D成像图
· 每点曝光时间: 50 ms
· 数据点: 13,320
类胡萝卜素（绿色）在洋葱表皮细胞中的分布图
· 每点曝光时间: 3ms
· 数据点: 53000
赤铁矿在石英中的分布图
· 每点曝光时间: 3ms
· 数据点: 55695
刻蚀硅中的硅晶格分布，格子间距~1μm
· 每点曝光时间: 1.2m
· 数据点：40200
更多应用案例，请参考应用报告与文章：
典型应用
材料
· 二维材料层数分布
· 复合材料成分分布
· 材料表面修饰程度分布
· 掺杂/缺陷分析
生物/药物
·生物组织成分分布
·药物主成分和辅料分布
·药物多晶型分布
·药物在细胞中的分布
地质
·矿物组成成分分布
·包裹体分布
·缺陷分析
·珠宝/玉石组成分布
LED/半导体
·圆晶片质量控制
·应力分布
·掺杂/缺陷分析
·PL成像
仪器性能
1. 继承与发展了XploRA的优异性能，包括全自动切换激光器、共聚焦、高光谱分辨和高空间分辨率、自动准直和校准、一键操作、与AFM联用等
2. 配备专为HORIBA优化的EMCCD：
·读谱速度可达1613条光谱/s，*超快速拉曼采集速度要求
·EM模式可对信号进行放大（高达1000倍），解决超快速成像中的积分时间短、拉曼信号弱的问题，提高成像灵敏度
·与HOIRBA的高精度自动平台(步长小至10nm)进行高速同步，减少通讯时间，实现了毫秒级别的拉曼成像
·在快速读谱时依然保持很低的读出噪音：<1e-
·非常好的线性，保证测试峰位的准确性
3. 以图像为中心的拉曼成像软件，提供无以伦比的采集速度、实时成像分析、巨量数据流的快速分析、多变量分析、3D数据分析等。
地质包裹体的3D成像图，显示石英基底、水相CO2和气相CO2的分布
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