VTC-2RF 射频等离子磁控溅射镀膜仪

具体成交价以合同协议为准

公司名称 中美合资合肥科晶材料技术有限公司
品牌
型号 VTC-2RF
产地
厂商性质 生产厂家
更新时间 2025/2/11 10:11:45
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产品标签

射频等离子磁控溅射镀膜仪 300W射频等离子磁控溅射镀膜仪

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公司介绍 主营产品

　　合肥科晶材料技术有限公司成立于1997年，是由一群来自麻省理工学院和加州大学伯克利分校的材料研究人员创办的美国MTI公司与中科院合肥物质科学研究院合资兴办的高新技术企业。主要生产氧化物晶体(A--Z)和材料实验室成套设备：包括“混料-压料-烧料”(混料机、压片机、箱式炉、真空管式炉)以及“定向-切割-研磨-抛光”(X射线定向仪、低速外圆锯、金刚石线切割机、自动研磨、抛光机)。公司自主研发生产上百款不同规格尺寸、温度、高温高压及快速升温等产品，其中包括：箱式炉、气氛炉、管式炉、井式炉、RTP快速升温炉、高温高压炉、镀膜机、清洗剂及新能源锂离子电池研发等相关实验室设备。现已成为氧化物晶体(A--Z)的主要制造商和材料研究实验室设备的*，为科研工作者提供材料研究解决方案。产品设计*、性能优异，质量可靠，性价比高，环保节能、返修率低，远销到欧洲，美国，日本，德国等许多国家，广泛应用于物理、化学、冶金、医学、新能源材料研发等领域，受到客户*好评。

　　科晶公司秉承"以人为本、技术为导、诚信为基、积极创新"的经营理念,全力打造材料研发设备的品牌,竭力为科学进步和社会发展做出贡献。

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真空管式炉，高温箱式炉，高速震动球磨机，RTP快速退火炉，高温高压炉，涂覆机，电池制备设备等

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射频等离子磁控溅射镀膜仪是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。
我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜

技术参数

输入电源	220VAC 50/60Hz, 单相 800W (包括真空泵）
等离子源	一个300W，13.5MHz的射频电源安装在移动柜内 (点击图片查看详细资料）
磁控溅射头	一个 2英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接靶材尺寸: 直径为50mm,zui大厚度6.35mm 一个快速挡板安装在法兰上（手动操作，见图左3）溅射头所需冷却水：流速10ml/min（仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机）同时可选配1英寸溅射头
真空腔体	真空腔体：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高纯石英制作密封法兰:直径为165 mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体真空度：10-3 Torr （采用双极旋片真空泵） 10-5 torr （采涡旋分子泵）
载样台	载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热载样台尺寸：直径50mm （zui大可放置2英寸的基片）旋转速度：1 - 20 rpm 样品的zui高加热温度为700℃，(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃ 控温精度+/- 10℃
真空泵	可选用直联式双极旋片泵,也可选用德国制作的分子泵系统
薄膜测厚仪	一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监控薄膜的厚度，分辨率为0.10 ? LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据
外形尺寸
质保和质量认证	一年质保期，终生维护 CE认证
使用注意事项	这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗，可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内