美国Sutter公司BV-10 微电极抛光（磨针）仪

微电极抛光（磨针）仪（Microelectrode Beveler）用于打磨拉制好的玻璃微电极*，主要是将*打磨成斜面，使电极更尖，同时使电极开口变大，一方面在进行细胞内记录时有利于电极刺入细胞，一方面在进行细胞内注射时有利于注射物质进入细胞。电阻测量仪可以在打磨完成后对电极电阻进行测量。

美国Sutter公司 BV-10型磨针仪美国 

    用于细胞内记录，打磨后可降低电极电阻，同时帮助电极刺入细胞（尤其是小细胞）。用于细胞内注射，减小对细胞的损伤，促进注射物质进入细胞

技术参数

 根据选择的打磨盘不同，可打磨口径0.1-50μm的玻璃电极

 打磨盘无振动，表面有磁力耦合。

 大磨盘表面为半波长（250nm）光学平面。

 同步钟电动机确保稳定转速。

 7磅重的底座增大了振动阻尼。

 配有卤素灯。

 配有微操纵器，控制打磨的精度与角度。

 打磨的差异：小于1.0μm

 打磨速度：60RPM

 打磨角度：5-90度可调

 微操：粗调1.9mm，微调0.01mm

 可选配体式显微镜（80x）和电极电阻测量仪

 电极电阻测量仪测量范围：0-10，0-100，0-500Ω

 有多种型号选择：BV-10-B（打磨仪），BV-10-C（打磨仪与电阻测量仪），BV-10-D（配有显微    镜的打磨仪），BV-10-E（配有显微镜的打磨仪与电阻测    量仪）。